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國立陽明交通大學研究發展處

儀器列表

  • 奈米製程領域

  • 更新日期:114-08-27
  • 發布單位:儀器資源中心
【奈米製程領域】導電性材料活性離子蝕刻機_矽深蝕刻系統 / SEMI001100
矽深蝕刻系統
  • Si Deep-RIE
    • 廠牌型號:Oxford Estrelas 100
  • 儀器專家:陳冠能 教授
    • 分機 31558
  • 儀器設備管理人員:胡進章 先生
  • 儀器設備管理人員:李正維 先生
  • 儀器位置:光復校區 固態電子系統大樓 1樓116實驗室
    • 分機 55666
  1. 廠牌型號:日本SamCo公司製造 RIE200L
  2. 購置年限:2002年12月1日
  3. 放置地點:光復校區 固態電子系統大樓 1樓116實驗室  (TEL:55666)
  4. 功能:蝕刻二氧化矽、氮化矽等材料
  5. 重要規格:RF產生器最大可輸出300W,頻率13.56MHz,本蝕刻系統可通入CF4、O2、SF6、CHF3等氣體蝕刻二氧化矽、氮化矽等材料。
  6. 儀器可使用之特殊製程材料
注意事項
  1. 請詳細說明基底晶片材質,其上含何種物質(如SiO2、光阻等)以及蝕刻後是否要去光阻(需另填寫Wet Bench申請表)。
  2. 矽深蝕刻樣品準備請依照試片規定
自行操作儀器
  1. 取得儀器使用權限說明:
  2. 儀器開放等級及人數
  3. 有儀器使用權限後,需登入下列系統取得序號並預約使用:
委託操作儀器
  1. 有國科會計畫者,請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號,再下載Si Deep-RIE委託代工申請單,將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
  2. 無國科會計畫者,請直接下載Si Deep-RIE委託代工申請單,將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
收費資訊
  1. 有國科會計畫者依計畫付費標準計價,無國科會計畫者依非計畫付費標準計價。
  2. 收費方式
    • 自行操作:收取使用費
    • 委託操作:收取使用費+代工費
  3. 費用查詢連結
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