[{"subject":"【奈米製程領域】三五族分子束磊晶系統 / SEMI001900","detailContent":"
\r\n
\"三五族分子束磊晶系統\"
\r\n\r\n\r\n
","dataClassName":null,"pubUnitName":"儀器資源中心","posterDate":null,"updateDate":"115-04-23","liaisonper":null,"liaisontel":null,"liaisonfax":null,"liaisonemail":null,"languageurl":null,"page1Title":"儀器介紹","page1":"儀器資訊\r\n\r\n
\r\n重要規格\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. High Vacuum Growth chamber：Pressure < 5×10-10 torr
    2. \r\n\t
  2. Source Material：Ga、Al、In、As、Sb.
    3. \r\n\t
  3. Doping Source ：Be、Si、Te
    4. \r\n\t
  4. Max substrate Size：3 inch
    5. \r\n\t
  5. Epitaxy Layer thickness Variation < 5%
    6. \r\n\t
  6. The highest growth temperature: 640℃
    7. \r\n\t
  7. In-situ rsidual gas analysis (RGA) and reflection high energy electron diffraction (RHEED, 15kV)：
    8. \r\n\t
  8. Regular monitoring epitaxy layer growth rate and quality.
    9. \r\n
","page2Title":"服務項目與系統開放等級","page2":"
\r\n
服務項目
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 本系統為超高真空系統，原則上不開放自行操作，但可現場陪同。
    2. \r\n\t
  2. 本系統服務每一片晶片以6小時為1單元。
    3. \r\n\t
  3. 申請使用者須和儀器負責教授或技術員接洽，以確定樣品符合需求。
    4. \r\n\t
  4. 每人每次最多預約5個樣品。
    5. \r\n\t
  5. 取消預約須於一週前告知。
    6. \r\n
\r\n\r\n

\r\n系統開放等級
\r\n目前只開放委託服務，由本實驗室技術人員操作。
\r\n
","page3Title":"收費標準","page3":"
\r\n
開放時段：本機台採取委託預約有需要請上貴儀系統預約。
\r\n\r\n
　　 　　 　　 　　 　　 　　\r\n\r\n\t\r\n\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\r\n
收費標準
服務項目收費標準（單位：NTD）
砷化物樣品委託計畫預約：$4,000 /1µm
\r\n\t\t\t非計畫預約：$15,000 /1µm
銻化物樣品委託計畫預約：$5,000 /1µm
\r\n\t\t\t非計畫預約：$25,000 /1µm
特殊結構測試費用依據結構難度額外加收 2-6µm不等之校正費用
基板費用GaAs 系列：$7,000 /單片
\r\n\t\t\tGaSb 系列：$25,000 /單片
\r\n\t\t\tInP 系列：$9,000 /單片
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 此收費標準係以樣品成長厚度在1微米計算。超過1微米以上部份，若不足1微米則以1微米 計算。
    2. \r\n\t
  2. 為維持本系統穩定性與超高真空條件，恕不接受委託者自行提供基板之要求；一律由本單位統一提供長晶基板。
    3. \r\n\t
  3. 另有特殊要求請先mail或來電討論。
    4. \r\n\t
  4. 若需長期委託服務者，可提供長期專案優惠。
    5. \r\n\t
  5. 本單位另可協助評估結構可行性與成長建議之諮詢服務。
    6. \r\n
\r\n
\r\n
","page4Title":"試片限制與預約辦法","page4":"
\r\n
管理辦法及試片限制
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 能夠成長的基板為GaAs、InP、InAs、GaSb、InSb。
    2. \r\n\t
  2. 委託操作者在繳交預約單後，必須聯絡技術員確定實驗時間與成長內容。
    3. \r\n
\r\n\r\n

\r\n儀器預約辦法
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 儀器預約﹝enter﹞
    2. \r\n\t
  2. 欲取消預約請在一周前，聯絡技術員並自行上網取消。
    3. \r\n\t
  3. 預約申請單繳交，請拍照或掃描傳送至技術員信箱
    4. \r\n
\r\n
","page5Title":null,"page5":null,"page6Title":null,"page6":null,"page7Title":null,"page7":null,"page8Title":null,"page8":null,"docs":[],"images":[{"fileurl":"https://www.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/image?module=corefacilities&detailNo=1164827124289245184&init=Y","expFile":"三五族分子束磊晶系統"}],"videos":[],"audios":[],"resources":[{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1721","relateName":"儀器列表"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1728","relateName":"奈米製程領域儀器"}]},{"subject":"【奈米製程領域】光罩製作系統(DWL-200) / SEMI002703","detailContent":"
\r\n
\"光罩製作系統\"
\r\n\r\n\r\n
","dataClassName":null,"pubUnitName":"儀器資源中心","posterDate":null,"updateDate":"115-05-20","liaisonper":null,"liaisontel":null,"liaisonfax":null,"liaisonemail":null,"languageurl":null,"page1Title":"儀器介紹","page1":"
\r\n
奈米中心介紹頁連結
\r\n
\r\n儀器資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 廠牌型號：HIMT DWL-200
    2. \r\n\t
  2. 購置年限：2007年4月
    3. \r\n\t
  3. 放置地點：光復校區 固態電子系統大樓 10級R 139實驗室   (TEL：55616) 
    4. \r\n\t
  4. 功能：玻璃光罩之製造(4”、5”及6”)， 5吋石英光罩(電洽)
    5. \r\n\t
  5. 重要規格：\r\n\t
      \r\n\t\t
    • (1).雷射光源442nm(g-line) Helium _Cadmium LASER Power 125mW
      • \r\n\t\t
    • (2).Minimum feature size is .80um
      • \r\n\t\t
    • (3).最大有效區域 200mm x 200mmdeposition)
      • \r\n\t\t
    • (4).GDSII   及 Auto CAD 之 *. dxf 檔
      • \r\n\t\t
    • (5).Dual CCD camera alignment system
      • \r\n\t
    \r\n\t
    6. \r\n\t
  6. 儀器可使用之特殊製程材料。
    7. \r\n
\r\n
","page2Title":"注意事項","page2":"
\r\n\r\n
","page3Title":"服務項目","page3":"
\r\n
委託操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載DWL-200委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心（本校固態電子系統大樓2F）給各儀器管理人員協助排程代工。
    2. \r\n\t
  2. 無國科會計畫者，請直接下載DWL-200委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心（本校固態電子系統大樓2F）給各儀器管理人員協助排程代工。
    3. \r\n
\r\n
","page4Title":"收費標準","page4":"
\r\n
收費資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者依計畫付費標準計價，無國科會計畫者依非計畫付費標準計價。
    2. \r\n\t
  2. 費用查詢連結：https://vir.nstc.gov.tw/VI_SearchResult?item=1
    3. \r\n
\r\n
","page5Title":null,"page5":null,"page6Title":null,"page6":null,"page7Title":null,"page7":null,"page8Title":null,"page8":null,"docs":[],"images":[{"fileurl":"https://www.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/image?module=corefacilities&detailNo=1164828994219020288&init=Y","expFile":"光罩製作系統（圖形產生系統）"}],"videos":[],"audios":[],"resources":[{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1721","relateName":"儀器列表"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1728&page=0&pageSize=15","relateName":"奈米製程領域儀器"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/view?module=corefacilities&id=1721&serno=d26fb9c8-bbca-4ab3-9784-71b9b4f03b69","relateName":"圖形產生系統"}]},{"subject":"【奈米製程領域】圖形產生系統 / SEMI002701","detailContent":"
\r\n
\"圖形產生系統\"
\r\n\r\n
圖形產生系統
\r\n\r\n\r\n
","dataClassName":null,"pubUnitName":"儀器資源中心","posterDate":null,"updateDate":"115-05-20","liaisonper":null,"liaisontel":null,"liaisonfax":null,"liaisonemail":null,"languageurl":null,"page1Title":"儀器介紹","page1":"
\r\n
奈米中心介紹頁連結
\r\n
\r\n儀器資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 廠牌型號：Raith VOYAGER
    2. \r\n\t
  2. 購置年限：2019年
    3. \r\n\t
  3. 放置地點：光復校區 固態電子系統大樓 1樓118實驗室 (TEL：55667)
    4. \r\n\t
  4. 功能：薄膜光阻曝寫
    5. \r\n\t
  5. 重要規格：\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 曝光源：電子束(Electron Beam)
      2. \r\n\t\t
    2. Maximum beam energy：50kV
      3. \r\n\t\t
    3. Maximum write field：500μm
      4. \r\n\t\t
    4. 50MHz Pattern Generator
      5. \r\n\t
    \r\n\t
    6. \r\n\t
  6. 儀器可使用之特殊製程材料
    7. \r\n
\r\n
","page2Title":"注意事項","page2":"
\r\n
注意事項
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 正表列：試片表面平整 (厚度小於1mm)(例如Si、SiC、GaAs、GaN等材料)
    2. \r\n\t
  2. 負表列(禁止使用)：\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 磁性材料、粉末材料、壓電材料、合成光阻
      2. \r\n\t\t
    2. 低融點材料
      3. \r\n\t\t
    3. 所有在電子束照射下會分解或釋出氣體及有礙真空維持之材料
      4. \r\n\t
    \r\n\t
    3. \r\n
\r\n
","page3Title":"自行操作規定","page3":"
\r\n
    \r\n\t
  1. 取得儀器使用權限說明：\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 白天權限申請流程說明 (使用權限為星期一至五8:00~17:00)
      2. \r\n\t\t
    2. 24小時申請流程說明 (需有白天權限才可申請)
      3. \r\n\t\t
    3. 注意事項 (務必詳讀，以免損失自身權益)
      4. \r\n\t\t
    4. 圖形產生系統操作規範&考核記錄表
      5. \r\n\t
    \r\n\t
    2. \r\n\t
  2. 儀器開放等級及人數，相關注意事項如下：\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 同一實驗室原則上開放3人自行操作，不限碩博士生(但以博士生優先)，如有需求需經儀器管理教授同意得增加至4人。
      2. \r\n\t\t
    2. 申請本設備自行操作者，需有奈米中心SEM儀器使用經驗(累積操作時數至少20小時)，如使用經驗為非奈米中心SEM儀器者，需填寫切結書。
      3. \r\n\t\t
    3. 需附SEM操作累積時數20小時證明文件(實驗自行操作紀錄本影本或其他證明文件並由機台管理人簽章。)
      4. \r\n\t\t
    4. 本設備自行操作訓練次數為5次。
      5. \r\n\t\t
    5. 擔任本設備之訓練員者，需先取得本設備之24小時自行操作權限。
      6. \r\n\t\t
    6. 經考核通過後，超過3個月未使用設備者，取消其操作權限。
      7. \r\n\t
    \r\n\t
    3. \r\n\t
  3. 有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用:\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統 (取得序號)
      2. \r\n\t\t
    2. 奈米中心儀器預約系統 (使用時段預約)
      3. \r\n\t
    \r\n\t
    4. \r\n
\r\n
","page4Title":"委託操作規定","page4":"
\r\n
委託操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載圖形產生系統委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    2. \r\n\t
  2. 無國科會計畫者，請直接下載圖形產生系統委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    3. \r\n
\r\n
","page5Title":"收費標準","page5":"
\r\n
收費資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者依計畫付費標準計價，無國科會計畫者依非計畫付費標準計價。
    2. \r\n\t
  2. 晶片由使用者自備。
    3. \r\n\t
  3. 委託圖形曝寫需使用NFC光阻時，委託塗佈材料費：800元(破片2片以內或4吋1片，現金收費)。
    4. \r\n\t
  4. 光罩曝寫視圖案情況，經評估後另行報價
    5. \r\n\t
  5. 收費方式：\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 自行操作：收取使用費
      2. \r\n\t\t
    2. 委託操作：收取使用費+代工費
      3. \r\n\t
    \r\n\t
    6. \r\n\t
  6. 費用查詢連結：https://vir.nstc.gov.tw/VI_SearchResult?item=1
    7. \r\n
\r\n
","page6Title":null,"page6":null,"page7Title":null,"page7":null,"page8Title":null,"page8":null,"docs":[],"images":[{"fileurl":"https://www.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/image?module=corefacilities&detailNo=1179328051964547072&init=Y","expFile":"圖形產生系統"}],"videos":[],"audios":[],"resources":[{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1721","relateName":"儀器列表"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1728","relateName":"奈米製程領域儀器"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/view?module=corefacilities&id=1728&serno=dcafb3c9-bba7-425a-9e41-a9cff19a8311","relateName":"光罩製作系統(DWL-200)"}]},{"subject":"【奈米製程領域】光罩對準曝光機 (A) / SEMI003000","detailContent":"
\r\n
\"光罩對準曝光機
\r\n\r\n\r\n
","dataClassName":null,"pubUnitName":"儀器資源中心","posterDate":null,"updateDate":"115-05-20","liaisonper":null,"liaisontel":null,"liaisonfax":null,"liaisonemail":null,"languageurl":null,"page1Title":"儀器介紹","page1":"
\r\n
奈米中心網頁介紹
\r\n
\r\n儀器資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 廠牌型號: 科毅科技AG1000-4D-D-S-M-V
    2. \r\n\t
  2. 購置年限: 2011年11月 
    3. \r\n\t
  3. 放置地點: 光復校區 固態電子系統大樓 1樓137實驗室   (TEL：55616)
    4. \r\n\t
  4. 功能:各種元件之對準曝光
    5. \r\n\t
  5. 重要規格:\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. Mask holder：4″x4″ , 5″x5″
      2. \r\n\t\t
    2. Chuck：4″
      3. \r\n\t\t
    3. Exposure size：4″
      4. \r\n\t\t
    4. Light source：1000W
      5. \r\n\t\t
    5. 汞燈光源：NUV
      6. \r\n\t
    \r\n\t
    6. \r\n\t
  6. 儀器可使用之特殊製程材料
    7. \r\n
\r\n
","page2Title":"注意事項","page2":"
\r\n
注意事項
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 預約使用以一個小時為一時段。
    2. \r\n\t
  2. 具該項儀器設備使用者其製程預約時間每日最多一個時段，不得重複預約
    3. \r\n\t
  3. 預約取消：因突發狀況，導致無法於預約時段內操作該項儀器設備者，應以預約24小時之前取消預約登記，未取消者按原來時段計算收費，原時段得由儀器設備管理人員開放出來給其他使用 者操作使用之，而原預約使用者須接受處罰，其罰則另定之。
    4. \r\n\t
  4. 預約登記使用未準時到者，視同預約未取，其時段得由其他使用者使用之。
    5. \r\n\t
  5. 委託製作者，請先與儀器設備管理人員聯絡。
    6. \r\n
\r\n
","page3Title":"自行操作規定","page3":"
\r\n
自行操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 申請此機台需同時加考光阻塗佈機、真空烤箱、光學顯微鏡
    2. \r\n\t
  2. 取得儀器使用權限說明：\r\n\t\r\n\t
    3. \r\n\t
  3. 儀器開放等級及人數。
    4. \r\n\t
  4. 有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用：\r\n\t\r\n\t
    5. \r\n
\r\n
","page4Title":"委託操作規定","page4":"
\r\n
委託操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 若非標準矽晶圓或其他材必須區分正反面者，需在申請表上或晶片上標註正反面及註明欲進行製程的表面，未標明或不提供確認資訊者恕不收件。
    2. \r\n\t
  2. 有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載雙面光罩對準曝光機委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    3. \r\n\t
  3. 無國科會計畫者，請直接下載雙面光罩對準曝光機委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    4. \r\n
\r\n
","page5Title":"收費標準","page5":"
\r\n
收費資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者依計畫付費標準計價，無國科會計畫者依非計畫付費標準計價。
    2. \r\n\t
  2. 只上光阻：每片 NTD $500( 4″ 與 破片 依樣收費 )。
    3. \r\n\t
  3. 代工需要對第二道時 ( 申請者須到場陪同,方便確認對準位置,避免爭議 )。
    4. \r\n\t
  4. 自行操作是以貴儀收費,委託代工會收取代工費與貴儀收費 (兩者)
    5. \r\n\t
  5. 收費方式\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 自行操作：收取使用費
      2. \r\n\t\t
    2. 委託操作：收取使用費+代工費
      3. \r\n\t
    \r\n\t
    6. \r\n\t
  6. 費用查詢連結：https://vir.nstc.gov.tw/VI_SearchResult?item=1
    7. \r\n
\r\n
","page6Title":null,"page6":null,"page7Title":null,"page7":null,"page8Title":null,"page8":null,"docs":[],"images":[{"fileurl":"https://www.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/image?module=corefacilities&detailNo=1164834748221100032&init=Y","expFile":"光罩對準曝光機 (A)"}],"videos":[],"audios":[],"resources":[{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1721","relateName":"儀器列表"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1728","relateName":"奈米製程領域儀器"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/view?module=corefacilities&id=1721&serno=2182a2a8-3ff0-4a1d-ace9-1a509ab933fa","relateName":"光罩對準曝光機(B)"}]},{"subject":"【奈米製程領域】光罩對準曝光機 (B) / SEMI003000","detailContent":"
\r\n
\"光罩對準曝光機
\r\n\r\n\r\n
","dataClassName":null,"pubUnitName":"儀器資源中心","posterDate":null,"updateDate":"115-05-20","liaisonper":null,"liaisontel":null,"liaisonfax":null,"liaisonemail":null,"languageurl":null,"page1Title":"儀器介紹","page1":"
\r\n
奈米中心網頁介紹
\r\n
\r\n儀器資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 廠牌型號: 科毅科技AG1000-6N-ST
    2. \r\n\t
  2. 購置年限: 2019年11月 
    3. \r\n\t
  3. 放置地點: 光復校區 固態電子系統大樓 1樓137實驗室   (TEL：55616)
    4. \r\n\t
  4. 功能:各種元件之對準曝光
    5. \r\n\t
  5. 重要規格:\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. (1).Mask holder：4″x4″ , 5″x5″
      2. \r\n\t\t
    2. (2).Chuck：4″
      3. \r\n\t\t
    3. (3).Exposure size：4″
      4. \r\n\t\t
    4. (4).Light source：1000W
      5. \r\n\t\t
    5. (5).汞燈光源：NUV
      6. \r\n\t
    \r\n\t
    6. \r\n\t
  6. 儀器可使用之特殊製程材料
    7. \r\n
\r\n
","page2Title":"注意事項","page2":"
\r\n
注意事項
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 預約使用以一個小時為一時段。
    2. \r\n\t
  2. 具該項儀器設備使用者其製程預約時間每日最多一個時段，不得重複預約
    3. \r\n\t
  3. 預約取消：因突發狀況，導致無法於預約時段內操作該項儀器設備者，應以預約24小時之前取消預約登記，未取消者按原來時段計算收費，原時段得由儀器設備管理人員開放出來給其他使用 者操作使用之，而原預約使用者須接受處罰，其罰則另定之。
    4. \r\n\t
  4. 預約登記使用未準時到者，視同預約未取，其時段得由其他使用者使用之。
    5. \r\n\t
  5. 委託製作者，請先與儀器設備管理人員聯絡。
    6. \r\n
\r\n
","page3Title":"自行操作規定","page3":"
\r\n
自行操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 申請此機台需同時加考光阻塗佈機、真空烤箱、光學顯微鏡
    2. \r\n\t
  2. 取得儀器使用權限說明：\r\n\t\r\n\t
    3. \r\n\t
  3. 儀器開放等級及人數。
    4. \r\n\t
  4. 有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用：\r\n\t\r\n\t
    5. \r\n
\r\n
","page4Title":"委託操作規定","page4":"
\r\n
委託操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 若非標準矽晶圓或其他材必須區分正反面者，需在申請表上或晶片上標註正反面及註明欲進行製程的表面，未標明或不提供確認資訊者恕不收件。
    2. \r\n
\r\n\r\n\r\n
","page5Title":"收費標準","page5":"
\r\n
收費資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者依計畫付費標準計價，無國科會計畫者依非計畫付費標準計價。
    2. \r\n\t
  2. 只上光阻：每片 NTD $500( 4″ 與 破片 依樣收費 )。
    3. \r\n\t
  3. 代工需要對第二道時 ( 申請者須到場陪同,方便確認對準位置,避免爭議 )。
    4. \r\n\t
  4. 自行操作是以貴儀收費,委託代工會收取代工費與貴儀收費 (兩者)
    5. \r\n\t
  5. 收費方式\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 自行操作：收取使用費
      2. \r\n\t\t
    2. 委託操作：收取使用費+代工費
      3. \r\n\t
    \r\n\t
    6. \r\n\t
  6. 費用查詢連結：https://vir.nstc.gov.tw/VI_SearchResult?item=1
    7. \r\n
\r\n
","page6Title":null,"page6":null,"page7Title":null,"page7":null,"page8Title":null,"page8":null,"docs":[],"images":[{"fileurl":"https://www.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/image?module=corefacilities&detailNo=1164849855453990912&init=Y","expFile":"光罩對準曝光機 (B)"}],"videos":[],"audios":[],"resources":[{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1721","relateName":"儀器列表"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1728","relateName":"奈米製程領域儀器"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/view?module=corefacilities&id=1721&serno=76efeed0-9e54-4920-9104-44f4a97af8cc","relateName":"光罩對準曝光機 (A)"}]},{"subject":"【奈米製程領域】氧化擴散系統 / SEMI002800","detailContent":"
\r\n
\"氧化擴散系統\"
\r\n\r\n\r\n
","dataClassName":null,"pubUnitName":"儀器資源中心","posterDate":null,"updateDate":"115-05-20","liaisonper":null,"liaisontel":null,"liaisonfax":null,"liaisonemail":null,"languageurl":null,"page1Title":"儀器介紹","page1":"
\r\n
奈米中心介紹頁連結
\r\n
\r\n儀器資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 廠牌型號： 森積  SJ-CA1200-D4
    2. \r\n\t
  2. 購置年限： 2012年12月
    3. \r\n\t
  3. 放置地點：光復校區 固態電子系統大樓 1樓 131實驗室　(TEL：55616)   
    4. \r\n\t
  4. 功能：\r\n\t
      \r\n\t\t
    • 濕氧氧化、乾氧氧化(dry & wet oxidation)
      • \r\n\t\t
    • N型，P型晶片(退火)
      • \r\n\t\t
    • SiO2 / Si，High-K / Si .Ge (Sintering)
      • \r\n\t\t
    • Al退火
      • \r\n\t
    \r\n\t
    5. \r\n\t
  5. 重要規格：\r\n\t
      \r\n\t\t
    • 加熱最高溫度1100°C
      • \r\n\t\t
    • 加熱區長度900mm，爐管(chamber)口徑6″
      • \r\n\t\t
    • 恆溫區600mm ±1℃於1000℃(三點測量)
      • \r\n\t\t
    • 0~1100°C加熱時間2小時
      • \r\n\t
    \r\n\t
    6. \r\n\t
  6. 儀器可使用之特殊製程材料
    7. \r\n
\r\n
","page2Title":"自行操作規定","page2":"
\r\n
自行操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 需已擁有Wet Bench使用權限才可申使用請氧化擴散系統。
    2. \r\n\t
  2. 取得儀器使用權限說明：\r\n\t\r\n\t
    3. \r\n\t
  3. 儀器開放等級及人數。
    4. \r\n\t
  4. 有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用：\r\n\t\r\n\t
    5. \r\n\t
  5. 管理及使用辦法:\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 爐管預約使用以四個小時為一個區段，可適用的爐管為Wet Oxidation、P+ Annealing 、N+ Annealing、Dry Oxidation等爐管。
      2. \r\n\t\t
    2. 每個爐管其預約製程使用時間最多三個區段(三個區段)，同一爐管預約使用在一週內製程使用時間最多兩(含兩次)。
      3. \r\n\t\t
    3. 預約方式：每週一起可預約當週及下週時段。
      4. \r\n\t\t
    4. 預約取消突發狀況，導致無法於預約時段內操作該項儀器設備者，應以預約三小時之前取消預約登記，預約未做且未取消時段，其空出時段得由儀器設備管理人開放出來給其他使用者操作使用之。
      5. \r\n\t\t
    5. 預約登記使用超過30分鐘未到者，視同預約取消，其時段得由其他使用者使用之。
      6. \r\n\t\t
    6. 實驗做完應確實填寫使用記錄簿。 
      7. \r\n\t
    \r\n\t
    6. \r\n
\r\n
","page3Title":"委託操作規定","page3":"
\r\n
委託操作儀器：
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載氧化擴散系統委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    2. \r\n\t
  2. 無國科會計畫者，請直接下載氧化擴散系統委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    3. \r\n
\r\n
","page4Title":"收費標準","page4":"
\r\n
收費資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者依計畫付費標準計價，無國科會計畫者依非計畫付費標準計價。
    2. \r\n\t
  2. 本中心規定最高溫度為1100oC，3″及4″晶片，一次最多25片。
    3. \r\n\t
  3. 不足一小時以一小時計算。
    4. \r\n\t
  4. 進入爐管之wafer，須先Clean，Clean之費用詳見Wet_Bench收費表。
    5. \r\n\t
  5. 收費方式：\r\n\t
      \r\n\t\t
    • 自行操作：收取開機費+製作費
      • \r\n\t\t
    • 委託操作：收取開機費+製作費+代工費
      • \r\n\t
    \r\n\t
    6. \r\n\t
  6. 費用查詢連結：https://vir.nstc.gov.tw/VI_SearchResult?item=1
    7. \r\n
\r\n
","page5Title":null,"page5":null,"page6Title":null,"page6":null,"page7Title":null,"page7":null,"page8Title":null,"page8":null,"docs":[],"images":[{"fileurl":"https://www.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/image?module=corefacilities&detailNo=1164832476044988416&init=Y","expFile":"氧化擴散系統 Oxidation & Diffusion Furnaces"}],"videos":[],"audios":[],"resources":[{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1721","relateName":"儀器列表"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1728","relateName":"奈米製程領域儀器"}]},{"subject":"【奈米製程領域】低壓化學氣相沉積系統 / SEMI002900","detailContent":"
\r\n
\"低壓化學氣相沉積系統\"
\r\n\r\n\r\n
","dataClassName":null,"pubUnitName":"儀器資源中心","posterDate":null,"updateDate":"115-05-20","liaisonper":null,"liaisontel":null,"liaisonfax":null,"liaisonemail":null,"languageurl":null,"page1Title":"儀器介紹","page1":"
\r\n
奈米中心介紹頁連結
\r\n
\r\n儀器資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 廠牌型號：SJ-10301001-1
    2. \r\n\t
  2. 購置年限：2014年12月28日
    3. \r\n\t
  3. 放置地點：光復校區 固態電子系統大樓 1樓127實驗室　(TEL：55616) 
    4. \r\n\t
  4. 功能：\r\n\t
      \r\n\t\t
    • (1).腔體（chamber)：6″，均溫區長度600mm
      • \r\n\t\t
    • (2).真空：5*10-3 Torr
      • \r\n\t\t
    • (3).溫度：POLY-Si-620°C，Si3N4-800°C，TEOS-700°C
      • \r\n\t
    \r\n\t
    5. \r\n\t
  5. 重要規格：\r\n\t
      \r\n\t\t
    • (1).多晶矽沉積摻雜磷化氫(Poly-Si in-situ PH3):溫度：585°C氣體：SiH4，PH3壓力：500mtorr
      • \r\n\t\t
    • (2).多晶矽及非晶矽的沈積(poly-Si & amorphous-Si)，矽鍺沉積(SiGe):溫度：620°C/550°C氣體：SiH4，GeH4壓力：300mtorr
      • \r\n\t\t
    • (3).氮化矽的沈積(Si3N4):溫度：800°C/850°C氣體：SiH2Cl2，NH3壓力：120mtorr
      • \r\n\t\t
    • (4).TEOS的沈積:溫度：700°C氣體：TEOS壓力：120mtorr
      • \r\n\t
    \r\n\t
    6. \r\n\t
  6. 儀器可使用之特殊製程材料。
    7. \r\n
\r\n
","page2Title":"自行操作規定","page2":"
\r\n
自行操作儀器
\r\n 
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 需已擁有Wet Bench使用權限才可申使用LPCVD系統。
    2. \r\n\t
  2. 取得儀器使用權限說明:\r\n\t\r\n\t
    3. \r\n\t
  3. 儀器開放等級及人數。
    4. \r\n\t
  4. 有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用:\r\n\t\r\n\t
    5. \r\n
\r\n
","page3Title":"委託操作規定","page3":"
\r\n
委託操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載LPCVD委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    2. \r\n\t
  2. 無國科會計畫者，請直接下載LPCVD委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    3. \r\n
\r\n
","page4Title":"收費標準","page4":"
\r\n
收費資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者依計畫付費標準計價，無國科會計畫者依非計畫付費標準計價。
    2. \r\n\t
  2. 收費方式\r\n\t
      \r\n\t\t
    • 自行操作：收取開機費+製作費
      • \r\n\t\t
    • 委託操作：收取開機費+製作費+代工費
      • \r\n\t
    \r\n\t
    3. \r\n\t
  3. 費用查詢連結：https://vir.nstc.gov.tw/VI_SearchResult?item=1
    4. \r\n
\r\n
","page5Title":null,"page5":null,"page6Title":null,"page6":null,"page7Title":null,"page7":null,"page8Title":null,"page8":null,"docs":[],"images":[{"fileurl":"https://www.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/image?module=corefacilities&detailNo=1164466141624537088&init=Y","expFile":"低壓化學氣相沉積系統 LPCVD"}],"videos":[],"audios":[],"resources":[{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1721","relateName":"儀器列表"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1728","relateName":"奈米製程領域儀器"}]},{"subject":"【奈米製程領域】電漿輔助化學氣相沉積系統 / SEMI002400","detailContent":"
\r\n
\"電漿輔助化學氣相沉積系統\"
\r\n\r\n\r\n
","dataClassName":null,"pubUnitName":"儀器資源中心","posterDate":null,"updateDate":"115-05-20","liaisonper":null,"liaisontel":null,"liaisonfax":null,"liaisonemail":null,"languageurl":null,"page1Title":"儀器介紹","page1":"
\r\n
奈米中心介紹頁連結
\r\n
\r\n儀器資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 廠牌型號：Samco
    2. \r\n\t
  2. 購置年限：1998年7月
    3. \r\n\t
  3. 放置地點：光復校區 固態電子系統大樓 1樓 116實驗室 (TEL：55666) 
    4. \r\n\t
  4. 功能：成長SiO2及Si3N4等薄膜
    5. \r\n\t
  5. 重要規格：\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 可使用晶圓尺寸：破片至4吋
      2. \r\n\t\t
    2. 單腔體：Chamber溫度300°C
      3. \r\n\t\t
    3. 使用的氣體包括：N2O、NH3、CF4、SiH4+Ar、N2等，可提供低溫之SiO2及Si3N4等薄膜沈積
      4. \r\n\t
    \r\n\t
    6. \r\n\t
  6. 儀器可使用之特殊製程材料
    7. \r\n
\r\n
","page2Title":"自行操作規定","page2":"
\r\n
自行操作儀器
\r\n 
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 取得儀器使用權限說明:\r\n\t\r\n\t
    2. \r\n\t
  2. 儀器開放等級及人數。
    3. \r\n\t
  3. 有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用:\r\n\t\r\n\t
    4. \r\n
\r\n
","page3Title":"委託操作規定","page3":"
\r\n
委託操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載PECVD委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    2. \r\n\t
  2. 無國科會計畫者，請直接下載PECVD委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    3. \r\n
\r\n
","page4Title":"收費標準","page4":"
\r\n
收費資訊
\r\n 
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者依計畫付費標準計價，無國科會計畫者依非計畫付費標準計價。
    2. \r\n\t
  2. 收費方式\r\n\t
      \r\n\t\t
    • 自行操作：收取開機費+製作費
      • \r\n\t\t
    • 委託操作：收取開機費+製作費+代工費
      • \r\n\t
    \r\n\t
    3. \r\n\t
  3. 費用查詢連結：https://vir.nstc.gov.tw/VI_SearchResult?item=1
    4. \r\n
\r\n
","page5Title":null,"page5":null,"page6Title":null,"page6":null,"page7Title":null,"page7":null,"page8Title":null,"page8":null,"docs":[],"images":[{"fileurl":"https://www.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/image?module=corefacilities&detailNo=1164468634328764416&init=Y","expFile":"電漿輔助化學氣相沉積系統"}],"videos":[],"audios":[],"resources":[{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1721","relateName":"儀器列表"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1728","relateName":"奈米製程領域儀器"}]},{"subject":"【奈米製程領域】介電材料活性離子蝕刻系統 (A) / SEMI002500","detailContent":"
\r\n
\"介電材料活性離子蝕刻系統
\r\n\r\n\r\n
","dataClassName":null,"pubUnitName":"儀器資源中心","posterDate":null,"updateDate":"115-05-20","liaisonper":null,"liaisontel":null,"liaisonfax":null,"liaisonemail":null,"languageurl":null,"page1Title":"儀器介紹","page1":"
\r\n
奈米中心介紹頁連結
\r\n
\r\n儀器資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 廠牌型號：日本SamCo公司製造 RIE-400iP。
    2. \r\n\t
  2. 購置年限：2019年3月4日。
    3. \r\n\t
  3. 放置地點：光復校區 固態電子系統大樓 1樓121實驗室  (TEL：55610)。   
    4. \r\n\t
  4. 功能：乾式蝕刻，蝕刻碳化矽(SiC)為主，特殊時機可以蝕刻介電質(SiO2、Si3N4)材料，4″ wafer為主。
    5. \r\n\t
  5. 重要規格：本蝕刻系統可通入C4F8、O2、SF6、CHF3等氣體蝕刻碳化矽(SiC)及介電質(SiO2、Si3N4)。
    6. \r\n\t
  6. 儀器可使用之特殊製程材料。
    7. \r\n
\r\n
","page2Title":"注意事項","page2":"
\r\n
注意事項
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 材料限制：\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 限碳化矽(SiC)基板與Si基板。
      2. \r\n\t\t
    2. 試片上不得有摻雜金屬元素或鍍有金屬薄膜。
      3. \r\n\t\t
    3. 試片不得經過後段製程機台。
      4. \r\n\t
    \r\n\t
    2. \r\n\t
  2. 請詳細說明基板上含何種物質(如Poly-Si、SiO2、Si3N4、光阻等)，以及是否要清洗晶片。
    3. \r\n\t
  3. 蝕刻若無特別要求，一律按中心標準製程參數為之。
    4. \r\n
\r\n
","page3Title":"自行操作規定","page3":"
\r\n
自行操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 取得儀器使用權限說明：\r\n\t\r\n\t
    2. \r\n\t
  2. 儀器開放等級及人數。
    3. \r\n\t
  3. 有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用：\r\n\t
      \r\n\t\t
    • (1).國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統 (取得序號)
      • \r\n\t\t
    • (2).奈米中心儀器預約系統 (使用時段預約)
      • \r\n\t
    \r\n\t
    4. \r\n
\r\n
","page4Title":"委託操作規定","page4":"
\r\n
委託操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載RIE-400iP委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    2. \r\n\t
  2. 無國科會計畫者，請直接下載RIE-400iP委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    3. \r\n
\r\n
","page5Title":"收費標準","page5":"
\r\n
收費資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者依計畫付費標準計價，無國科會計畫者依非計畫付費標準計價。
    2. \r\n\t
  2. 收費方式\r\n\t
      \r\n\t\t
    • 自行操作：收取使用費
      • \r\n\t\t
    • 委託操作：收取使用費+代工費
      • \r\n\t
    \r\n\t
    3. \r\n\t
  3. 費用查詢連結：https://vir.nstc.gov.tw/VI_SearchResult?item=1
    4. \r\n
\r\n
","page6Title":null,"page6":null,"page7Title":null,"page7":null,"page8Title":null,"page8":null,"docs":[],"images":[{"fileurl":"https://www.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/image?module=corefacilities&detailNo=1164470830663471104&init=Y","expFile":"介電材料活性離子蝕刻系統 A"}],"videos":[],"audios":[],"resources":[{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1721","relateName":"儀器列表"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1728","relateName":"奈米製程領域儀器"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/view?module=corefacilities&id=1728&serno=ea38a997-2188-48e1-906c-d24fb52a2f0c","relateName":"介電材料活性離子蝕刻系統 (B)"}]},{"subject":"【奈米製程領域】介電材料活性離子蝕刻系統 (B) / SEMI002500","detailContent":"
\r\n
\"介電材料活性離子蝕刻系統B\"
\r\n\r\n\r\n
","dataClassName":null,"pubUnitName":"儀器資源中心","posterDate":null,"updateDate":"115-05-20","liaisonper":null,"liaisontel":null,"liaisonfax":null,"liaisonemail":null,"languageurl":null,"page1Title":"儀器介紹","page1":"
\r\n
奈米中心介紹頁連結
\r\n
\r\n儀器資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 廠牌型號：日本SamCo公司製造 RIE200L
    2. \r\n\t
  2. 購置年限：2002年12月1日
    3. \r\n\t
  3. 放置地點：光復校區 固態電子系統大樓 1樓116實驗室  (TEL：55666)
    4. \r\n\t
  4. 功能：蝕刻二氧化矽、氮化矽等材料
    5. \r\n\t
  5. 重要規格：RF產生器最大可輸出300W，頻率13.56MHz，本蝕刻系統可通入CF4、O2、SF6、CHF3等氣體蝕刻二氧化矽、氮化矽等材料。
    6. \r\n\t
  6. 儀器可使用之特殊製程材料。
    7. \r\n
\r\n
","page2Title":"注意事項","page2":"
\r\n
注意事項
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 請詳細說明基板其上含何種物質(如SiO2、Si3N4、Metal、光阻等)。
    2. \r\n\t
  2. 蝕刻若無特別要求，一律按中心標準製程為之：\r\n\t
      \r\n\t\t
    • (1).SiOx : (RIE mode) 300 ~400 Å/min  100W,4Pa.
      • \r\n\t\t
    • (2).SiNx : (RIE mode) 900~1000 Å/min   100W,4Pa.
      • \r\n\t
    \r\n\t
    3. \r\n\t
  3. 晶片上不得有Ag, Au, Cu, Fe, Ni, Zn, LiNbO3, In, Pb, Sn, ITO等成份。
    4. \r\n\t
  4. 金屬不得露出。
    5. \r\n
\r\n
","page3Title":"自行操作規定","page3":"
\r\n
自行操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 取得儀器使用權限說明：\r\n\t\r\n\t
    2. \r\n\t
  2. 儀器開放等級及人數。
    3. \r\n\t
  3. 有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用：\r\n\t
      \r\n\t\t
    • (1).國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統 (取得序號)
      • \r\n\t\t
    • (2).奈米中心儀器預約系統 (使用時段預約)
      • \r\n\t
    \r\n\t
    4. \r\n
\r\n
","page4Title":"委託操作規定","page4":"
\r\n
委託操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載RIE 200L委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    2. \r\n\t
  2. 無國科會計畫者，請直接下載RIE 200L委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    3. \r\n
\r\n
","page5Title":"收費標準","page5":"
\r\n
收費資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者依計畫付費標準計價，無國科會計畫者依非計畫付費標準計價。
    2. \r\n\t
  2. 收費方式\r\n\t
      \r\n\t\t
    • 自行操作：收取使用費
      • \r\n\t\t
    • 委託操作：收取使用費+代工費
      • \r\n\t
    \r\n\t
    3. \r\n\t
  3. 費用查詢連結：https://vir.nstc.gov.tw/VI_SearchResult?item=1
    4. \r\n
\r\n
","page6Title":null,"page6":null,"page7Title":null,"page7":null,"page8Title":null,"page8":null,"docs":[],"images":[{"fileurl":"https://www.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/image?module=corefacilities&detailNo=1164472535547383808&init=Y","expFile":"介電材料活性離子蝕刻系統B"}],"videos":[],"audios":[],"resources":[{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1721","relateName":"儀器列表"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1728","relateName":"奈米製程領域儀器"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/view?module=corefacilities&id=1721&serno=06b50ae7-1fe6-44f8-9b81-de22c82fd1c7","relateName":"介電材料活性離子蝕刻系統 (A)"}]},{"subject":"【奈米製程領域】冷場發射掃描式電子顯微鏡暨能量散佈分析儀器 / EM023600","detailContent":"
\r\n
\"冷場發射掃描式電子顯微鏡暨能量散佈分析儀器\"
\r\n\r\n\r\n
","dataClassName":null,"pubUnitName":"儀器資源中心","posterDate":null,"updateDate":"115-05-20","liaisonper":null,"liaisontel":null,"liaisonfax":null,"liaisonemail":null,"languageurl":null,"page1Title":"儀器介紹","page1":"
\r\n
奈米中心介紹頁連結
\r\n
\r\n儀器資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 廠牌型號：Hitachi SU-8010
    2. \r\n\t
  2. 購置年限：2013年10月
    3. \r\n\t
  3. 放置地點：光復校區 工程六館2樓212室實驗室  (TEL：55337) 
    4. \r\n\t
  4. 功能：\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 電子顯微鏡觀察(SEM)：高倍率放大觀察元件、薄膜等微細結構或剖面結構
      2. \r\n\t\t
    2. 表面能階分析(EDS)：特定位置表面材料成分電子能階光譜分析，用以判斷表面材料或污染的組成
      3. \r\n\t\t
    3. 試片前處理：新購置離子研磨機，具有剖面研磨&表面研磨功能，協助讓試片表面更平整，便於SEM觀察
      4. \r\n\t
    \r\n\t
    5. \r\n\t
  5. 重要規格：\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 電子源：冷陰極電子槍
      2. \r\n\t\t
    2. 操作電壓：0.1kV~30kV
      3. \r\n\t\t
    3. 試片尺寸：50mm diameter x 50mm diameter
      4. \r\n\t\t
    4. 解析度：10A° (at 15kV) or 13A° (at 1kV)
      5. \r\n\t\t
    5. 放大倍率20倍~80萬倍(依試片本身而定)
      6. \r\n\t\t
    6. 二次電子解析度1.0nm(15kV下)
      7. \r\n\t\t
    7. EDS可提供全能譜定性分析（Be4~U92）、半定量分析及元素分佈圖
      8. \r\n\t\t
    8. 離子研磨機使用氣體:氬氣(Ar)
      9. \r\n\t\t
    9. 剖面研磨範圍X:≥7mm Y: ≥3mm
      10. \r\n\t\t
    10. 表面研磨速度：0°：≥2μm/hr 60°：≥20μm/hr
      11. \r\n\t
    \r\n\t
    6. \r\n\t
  6. 儀器可使用之特殊製程材料
    7. \r\n
\r\n
","page2Title":"注意事項","page2":"
\r\n
SEM限制使用之材料
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 磁性材料（含鐵、鈷、鎳成分）
    2. \r\n\t
  2. 有機物、高分子、粉末等材料
    3. \r\n\t
  3. 所有在電子束照射下會分解或釋出高揮發性物質或氣體之材料
    4. \r\n
\r\n
","page3Title":"自行操作規定","page3":"
\r\n
自行操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 取得儀器使用權限說明:\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 白天權限申請流程說明 (使用權限為星期一至五8:00~17:00)
      2. \r\n\t\t
    2. 24小時申請流程說明 (需有白天權限才可申請)
      3. \r\n\t\t
    3. 注意事項 (務必詳讀，以免損失自身權益)
      4. \r\n\t\t
    4. SEM8010儀器操作規範&考核記錄表
      5. \r\n\t
    \r\n\t
    2. \r\n\t
  2. 儀器開放等級及人數
    3. \r\n\t
  3. 有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用:\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統 (取得序號)
      2. \r\n\t\t
    2. 奈米中心儀器預約系統 (使用時段預約)
      3. \r\n\t
    \r\n\t
    4. \r\n
\r\n
","page4Title":"委託操作規定","page4":"
\r\n
委託操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載SEM8010委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    2. \r\n\t
  2. 無國科會計畫者，請直接下載SEM8010委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    3. \r\n
\r\n
","page5Title":"收費標準","page5":"
\r\n
收費資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者依計畫付費標準計價，無國科會計畫者依非計畫付費標準計價。
    2. \r\n\t
  2. 請自備導電膠帶或熱感紙 (規格為K65HM)。
    3. \r\n\t
  3. 收費方式\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 自行操作：收取開機費 (樣品表面鍍膜/EDS另計)
      2. \r\n\t\t
    2. 委託操作：收取開機費+代工費 (樣品表面鍍膜/EDS另計)
      3. \r\n\t
    \r\n\t
    4. \r\n\t
  4. 費用查詢連結：https://vir.nstc.gov.tw/VI_SearchResult?item=1
    5. \r\n
\r\n
","page6Title":null,"page6":null,"page7Title":null,"page7":null,"page8Title":null,"page8":null,"docs":[],"images":[{"fileurl":"https://www.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/image?module=corefacilities&detailNo=1164476973863407616&init=Y","expFile":"冷場發射掃描式電子顯微鏡暨能量散佈分析儀器"}],"videos":[],"audios":[],"resources":[{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1721","relateName":"儀器列表"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1728","relateName":"奈米製程領域儀器"}]},{"subject":"【奈米製程領域】聚焦離子束與電子束顯微系統 / EM0000013900","detailContent":"
\r\n
\"聚焦離子束與電子束顯微系統\"
\r\n\r\n\r\n
","dataClassName":null,"pubUnitName":"儀器資源中心","posterDate":null,"updateDate":"115-05-20","liaisonper":null,"liaisontel":null,"liaisonfax":null,"liaisonemail":null,"languageurl":null,"page1Title":"儀器介紹","page1":"
\r\n
奈米中心介紹頁連結
\r\n
\r\n儀器資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 廠牌型號：TESCAN GAIA3
    2. \r\n\t
  2. 購置年限：2017年12月18日
    3. \r\n\t
  3. 放置地點：光復校區 工六館 213室   (TEL：55368) 
    4. \r\n\t
  4. 功能：\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 穿透式電子顯微鏡試 in-situ及ex-situ TEM試片製備
      2. \r\n\t\t
    2. 奈米結構製程：奈米材料、元件之特定圖形結構之製程及觀察
      3. \r\n\t\t
    3. 剖面試片之製作及觀察：剖面試片切割及影像記錄
      4. \r\n\t\t
    4. 白金之沉積：白金鍍層及影像記錄
      5. \r\n\t\t
    5. 全程上異常觀察分析：固態電子元件之線路修復、切割、鍍層及影像記錄
      6. \r\n\t\t
    6. 晶相分析及觀察
      7. \r\n\t\t
    7. 本機台加裝能量散佈質譜器(EDX)，可作元素成分之定性及半定量之分析
      8. \r\n\t
    \r\n\t
    5. \r\n\t
  5. 重要規格：\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 電子源：場發射式
      2. \r\n\t\t
    2. 離子源：Ga液態金屬離子源
      3. \r\n\t\t
    3. 加速電壓：電子束—200V~30kV、離子束—500V~30kV
      4. \r\n\t\t
    4. 影像解析度：SEM—1.5nm at 15kV、FIB—2.5nm at 30kV
      5. \r\n\t\t
    5. 工作距離：5mm
      6. \r\n\t\t
    6. 試片規格：直徑(10mm dia ) x 高度(<0.50cm)
      7. \r\n\t\t
    7. 放大倍率SEM: 4x~1Mx、FIB: 150x~1Mx
      8. \r\n\t\t
    8. GIS、 Pt、SiO2
      9. \r\n\t
    \r\n\t
    6. \r\n\t
  6. 儀器可使用之特殊製程材料
    7. \r\n
\r\n
","page2Title":"注意事項","page2":"
\r\n
注意事項
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 限制使用FIB機台之材料：\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 磁性材料
      2. \r\n\t\t
    2. 全粉末等電子束照射下會分解或釋出氣體材料
      3. \r\n\t\t
    3. 低熔點的物質
      4. \r\n\t\t
    4. 合金材料含有磁性材料高於5%者
      5. \r\n\t
    \r\n\t
    2. \r\n\t
  2. 使用者必需詳細說明試片之製作方式，若有可能造成真空腔污染，本單位有權拒絕受理。預約者請於實驗三天前填妥申請表格(請繪製樣品及觀察位置之top view、cross-section圖，並註明各層材料及厚度)，並傳送檔案予技術人員審核。
    3. \r\n\t
  3. 若因試片處理不當造成機台損壞或污染，須負賠償責任。賠償費用由原廠評估並經管理委員會決議後執行。
    4. \r\n\t
  4. 試片直徑約10mm dia，高度小於0.5cm為較合適的尺寸，表面必須平整，不可局部起伏過大。若為特殊尺寸，應事先與管理者聯繫確認是否適合進行實驗。
    5. \r\n\t
  5. 半導體、導電性不佳及絕緣體試片需先鍍導電膜(金或鉑較佳)，現場無提供鍍膜處理。
    6. \r\n\t
  6. 請自備空白光碟片存取資料。為避免設備中毒，禁用隨身碟進行圖檔傳輸。
    7. \r\n\t
  7. TEM試片製作請自備銅網。每3小時一個時段製作一片，由委託者及助教共同合作，使用OM放置試片於自備銅網上。因試片材質會影響玻璃針吸附效果，若未能成功放置銅網，不另補作。
    8. \r\n\t
  8. 其他付費說明:\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 白金電極付費：鍍白金電極時間於0.1%以內不予收費。超過0.1%計價方式為每0.1%收費現金200元。請實驗後拿繳款通知單至奈米中心繳款
      2. \r\n\t\t
    2. EDX付費：本機台之EDX可做Mapping / Line Scan /定性及半定量分析，每小時加收貴儀600元。
      3. \r\n\t
    \r\n\t
    9. \r\n\t
  9. 分析測試時若發現樣品不符合規定，樣品將被退回並照其預約之時段付費。實驗之樣品請送件，以供測試使用。使用者應在場說明需分析之內容。
    10. \r\n\t
  10. 貴儀系統預約限制為：每位計畫主持人每月限預約二次。機台開放預約時間為每月25日上午九時，預約次月實驗。實驗時間預約後若需取消，請於五天前自行登錄貴儀系統取消，否則仍需扣款。
    11. \r\n\t
  11. 自行操作：每月25日上午九時起，預約次月1日~15日實驗；當月10日上午九時起，預約當月16日~月底實驗，每人每梯次限預約一次。需在2天前取消預約：於2天前取消，則不予扣款；若未於2天前取消，但該時段有人能替補使用，則不予扣款；若未於2天前取消，且該時段無人能替補使用，則需收費。
    12. \r\n\t
  12. 無故預約不到，自動扣該次時段；遲到超過十五分鐘，扣預約時段並取消服務。
    13. \r\n
\r\n
","page3Title":"自行操作規定","page3":"
\r\n
自行操作儀器
\r\n 
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 取得儀器使用權限說明：\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 申請方式
      2. \r\n\t\t
    2. 注意事項 (務必詳讀，以免損失自身權益)
      3. \r\n\t\t
    3. FIB儀器操作規範&考核內容
      4. \r\n\t
    \r\n\t
    2. \r\n\t
  2. 儀器開放等級及人數。
    3. \r\n\t
  3. 有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用:\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 預約時段如遇國定假日、機台故障維護或耗材更換，時段以取消處理，不另補做。
      2. \r\n\t\t
    2. 國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統 (取得序號)
      3. \r\n\t\t
    3. 奈米中心儀器預約系統 (使用時段預約)
      4. \r\n\t
    \r\n\t
    4. \r\n
\r\n
","page4Title":"委託操作規定","page4":"
\r\n
委託操作儀器
\r\n 
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載FIB委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    2. \r\n\t
  2. 無國科會計畫者，請直接下載FIB委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    3. \r\n
\r\n
","page5Title":"收費標準","page5":"
\r\n
收費資訊
\r\n 
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者依計畫付費標準計價，無國科會計畫者依非計畫付費標準計價。
    2. \r\n\t
  2. 請自備空白CD片
    3. \r\n\t
  3. 耗材現金收費（試片清汙 每次 NT$500）
    4. \r\n\t
  4. 費用查詢連結：https://vir.nstc.gov.tw/VI_SearchResult?item=1
    5. \r\n
\r\n
","page6Title":null,"page6":null,"page7Title":null,"page7":null,"page8Title":null,"page8":null,"docs":[],"images":[{"fileurl":"https://www.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/image?module=corefacilities&detailNo=1164479304264847360&init=Y","expFile":"聚焦離子束與電子束顯微系統"}],"videos":[],"audios":[],"resources":[{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1721","relateName":"儀器列表"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1728","relateName":"奈米製程領域儀器"}]},{"subject":"【奈米製程領域】導電性材料活性離子蝕刻機_高密度活性離子蝕刻系統 / SEMI001100","detailContent":"
\r\n
\"高密度活性離子蝕刻系統\"
\r\n\r\n\r\n
","dataClassName":null,"pubUnitName":"儀器資源中心","posterDate":null,"updateDate":"115-05-20","liaisonper":null,"liaisontel":null,"liaisonfax":null,"liaisonemail":null,"languageurl":null,"page1Title":"儀器介紹","page1":"
\r\n
奈米中心介紹頁連結
\r\n
\r\n儀器資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 廠牌型號：慶康科技
    2. \r\n\t
  2. 購置年限：1999年3月
    3. \r\n\t
  3. 放置地點：光復校區 固態電子系統大樓 1樓116實驗室   (TEL：55666) 
    4. \r\n\t
  4. 功能：乾式蝕刻，以蝕刻Al材料為主
    5. \r\n\t
  5. 重要規格：使用氣體包含BCl3、Cl2、CF4、CHF3、Ar、O2、SF6，ICP RF最大功率900W，Bias RF最大功率300W，以He gas系統冷卻，4″ wafer為主
    6. \r\n\t
  6. 儀器可使用之特殊製程材料。
    7. \r\n
\r\n
","page2Title":"注意事項","page2":"
\r\n
注意事項
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 請詳細說明基底晶片材質，其上含何種物質 (如SiO2、光阻等) 以及是否要清洗晶片。
    2. \r\n\t
  2. 蝕刻若無特別要求，一律按中心標準製程為之。
    3. \r\n
\r\n
","page3Title":"自行操作規定","page3":"
\r\n
自行操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 取得儀器使用權限說明：\r\n\t\r\n\t
    2. \r\n\t
  2. 儀器開放等級及人數。
    3. \r\n\t
  3. 有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用：\r\n\t\r\n\t
    4. \r\n
\r\n
","page4Title":"委託操作規定","page4":"
\r\n
委託操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載HDP-RIE委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    2. \r\n\t
  2. 無國科會計畫者，請直接下載HDP-RIE委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    3. \r\n
\r\n
","page5Title":"收費標準","page5":"
\r\n
收費資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者依計畫付費標準計價，無國科會計畫者依非計畫付費標準計價。
    2. \r\n\t
  2. 收費方式\r\n\t
      \r\n\t\t
    • 自行操作：收取使用費
      • \r\n\t\t
    • 委託操作：收取使用費+代工費
      • \r\n\t
    \r\n\t
    3. \r\n\t
  3. 費用查詢連結：https://vir.nstc.gov.tw/VI_SearchResult?item=1
    4. \r\n
\r\n
","page6Title":null,"page6":null,"page7Title":null,"page7":null,"page8Title":null,"page8":null,"docs":[],"images":[{"fileurl":"https://www.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/image?module=corefacilities&detailNo=1164481153281822720&init=Y","expFile":"導電性材料活性離子蝕刻系統 (HDP-RIE, Si Deep-RIE, Shallow Si RIE)"}],"videos":[],"audios":[],"resources":[{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1721","relateName":"儀器列表"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1728","relateName":"奈米製程領域儀器"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/view?module=corefacilities&id=1728&serno=236423be-f9a4-465a-a73e-60c91e2a69b2","relateName":"矽淺蝕刻系統"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/view?module=corefacilities&id=1728&serno=44d2f5d7-6551-4268-bed9-776357ce9c19","relateName":"矽深蝕刻系統"}]},{"subject":"【奈米製程領域】導電性材料活性離子蝕刻機_矽深蝕刻系統 / SEMI001100","detailContent":"
\r\n
\"矽深蝕刻系統\"
\r\n\r\n\r\n
","dataClassName":null,"pubUnitName":"儀器資源中心","posterDate":null,"updateDate":"115-05-20","liaisonper":null,"liaisontel":null,"liaisonfax":null,"liaisonemail":null,"languageurl":null,"page1Title":"儀器介紹","page1":"
\r\n
奈米中心介紹頁連結
\r\n
\r\n儀器資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 廠牌型號：日本SamCo公司製造 RIE200L
    2. \r\n\t
  2. 購置年限：2002年12月1日
    3. \r\n\t
  3. 放置地點：光復校區 固態電子系統大樓 1樓116實驗室  (TEL：55666)
    4. \r\n\t
  4. 功能：蝕刻二氧化矽、氮化矽等材料
    5. \r\n\t
  5. 重要規格：RF產生器最大可輸出300W，頻率13.56MHz，本蝕刻系統可通入CF4、O2、SF6、CHF3等氣體蝕刻二氧化矽、氮化矽等材料。
    6. \r\n\t
  6. 儀器可使用之特殊製程材料。
    7. \r\n
\r\n
","page2Title":"注意事項","page2":"
\r\n
注意事項
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 請詳細說明基底晶片材質，其上含何種物質(如SiO2、光阻等)以及蝕刻後是否要去光阻(需另填寫Wet Bench申請表)。
    2. \r\n\t
  2. 矽深蝕刻樣品準備請依照試片規定。
    3. \r\n
\r\n
","page3Title":"自行操作規定","page3":"
\r\n
自行操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 取得儀器使用權限說明：\r\n\t\r\n\t
    2. \r\n\t
  2. 儀器開放等級及人數。
    3. \r\n\t
  3. 有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用：\r\n\t\r\n\t
    4. \r\n
\r\n
","page4Title":"委託操作規定","page4":"
\r\n
委託操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載Si Deep-RIE委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    2. \r\n\t
  2. 無國科會計畫者，請直接下載Si Deep-RIE委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    3. \r\n
\r\n
","page5Title":"收費標準","page5":"
\r\n
收費資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者依計畫付費標準計價，無國科會計畫者依非計畫付費標準計價。
    2. \r\n\t
  2. 收費方式\r\n\t
      \r\n\t\t
    • 自行操作：收取使用費
      • \r\n\t\t
    • 委託操作：收取使用費+代工費
      • \r\n\t
    \r\n\t
    3. \r\n\t
  3. 費用查詢連結：https://vir.nstc.gov.tw/VI_SearchResult?item=1
    4. \r\n
\r\n
","page6Title":null,"page6":null,"page7Title":null,"page7":null,"page8Title":null,"page8":null,"docs":[],"images":[{"fileurl":"https://www.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/image?module=corefacilities&detailNo=1164482666209218560&init=Y","expFile":"矽深蝕刻系統"}],"videos":[],"audios":[],"resources":[{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1721","relateName":"儀器列表"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1728","relateName":"奈米製程領域儀器"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/view?module=corefacilities&id=1728&serno=236423be-f9a4-465a-a73e-60c91e2a69b2","relateName":"矽淺蝕刻系統"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/view?module=corefacilities&id=1728&serno=a0780a37-29e6-4bb5-bd2f-0192661c9e07","relateName":"高密度活性離子蝕刻系統"}]},{"subject":"【奈米製程領域】導電性材料活性離子蝕刻機_矽淺蝕刻系統 / SEMI001100","detailContent":"
\r\n
\"矽淺蝕刻系統\"
\r\n\r\n\r\n
","dataClassName":null,"pubUnitName":"儀器資源中心","posterDate":null,"updateDate":"115-05-20","liaisonper":null,"liaisontel":null,"liaisonfax":null,"liaisonemail":null,"languageurl":null,"page1Title":"儀器介紹","page1":"
\r\n
奈米中心介紹頁連結
\r\n
\r\n儀器資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 廠牌型號：Gigalane Maxis 200L
    2. \r\n\t
  2. 購置年限：2022年01月
    3. \r\n\t
  3. 放置地點：光復校區 固態電子系統大樓 1樓127實驗室  (TEL：55616)
    4. \r\n\t
  4. 功能：乾式蝕刻，高選擇比矽淺層蝕刻(Si/SiO2)
    5. \r\n\t
  5. 重要規格：使用氣體包含HBr、Cl2、CF4、Ar、O2，以He gas系統冷卻，4″ wafer為主
    6. \r\n\t
  6. 儀器可使用之特殊製程材料
    7. \r\n
\r\n
","page2Title":"注意事項","page2":"
\r\n
注意事項
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 請詳細說明基底晶片材質，其上含何種物質（如SiO2、光阻等）以及蝕刻後是否要去光阻（需另填寫Wet Bench申請表）。
    2. \r\n\t
  2. 限前段晶片。
    3. \r\n
\r\n
","page3Title":"自行操作規定","page3":"
\r\n
自行操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 取得儀器使用權限說明：\r\n\t\r\n\t
    2. \r\n\t
  2. 儀器開放等級及人數。
    3. \r\n\t
  3. 有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用：\r\n\t\r\n\t
    4. \r\n
\r\n
","page4Title":"委託操作規定","page4":"
\r\n
委託操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載RIE委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至奈米中心（本校固態電子系統大樓2F）給各儀器管理人員協助排程代工。
    2. \r\n\t
  2. 無國科會計畫者，請直接下載RIE委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至奈米中心（本校固態電子系統大樓2F）給各儀器管理人員協助排程代工。
    3. \r\n
\r\n
","page5Title":"收費標準","page5":"
\r\n
收費資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者依計畫付費標準計價，無國科會計畫者依非計畫付費標準計價。
    2. \r\n\t
  2. 收費方式\r\n\t
      \r\n\t\t
    • 自行操作：收取使用費
      • \r\n\t\t
    • 委託操作：收取使用費+代工費
      • \r\n\t
    \r\n\t
    3. \r\n\t
  3. 費用查詢連結：https://vir.nstc.gov.tw/VI_SearchResult?item=1
    4. \r\n
\r\n
","page6Title":null,"page6":null,"page7Title":null,"page7":null,"page8Title":null,"page8":null,"docs":[],"images":[{"fileurl":"https://www.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/image?module=corefacilities&detailNo=1164484429544951808&init=Y","expFile":"矽淺蝕刻系統"}],"videos":[],"audios":[],"resources":[{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1721","relateName":"儀器列表"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1728&page=0&pageSize=15","relateName":"奈米製程領域儀器"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/view?module=corefacilities&id=1728&serno=44d2f5d7-6551-4268-bed9-776357ce9c19","relateName":"矽深蝕刻系統"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/view?module=corefacilities&id=1728&serno=a0780a37-29e6-4bb5-bd2f-0192661c9e07","relateName":"高密度活性離子蝕刻系統"}]},{"subject":"【奈米製程領域】熱蒸鍍系統_熱阻絲蒸鍍系統 / SEMI00001301","detailContent":"
\r\n
\"熱阻絲蒸鍍系統\"
\r\n\r\n\r\n
","dataClassName":null,"pubUnitName":"儀器資源中心","posterDate":null,"updateDate":"115-05-20","liaisonper":null,"liaisontel":null,"liaisonfax":null,"liaisonemail":null,"languageurl":null,"page1Title":"儀器介紹","page1":"
\r\n
奈米中心介紹頁連結
\r\n
\r\n儀器資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 廠牌型號：日本ULVAC EBX-6D
    2. \r\n\t
  2. 購置年限：1995年1月
    3. \r\n\t
  3. 放置地點：光復校區 固態電子系統大樓 3 樓實驗室   (TEL：55608) 
    4. \r\n\t
  4. 功能：薄膜蒸鍍(主要用於鋁金屬之蒸鍍)
    5. \r\n\t
  5. 重要規格：\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 抽氣系統：RP+擴散幫浦，最低壓力2.0E–6 Torr
      2. \r\n\t\t
    2. 基板大小：4吋晶片8片 或 6吋晶片5片
      3. \r\n\t\t
    3. 鍍膜均勻性：±5%以內 (4吋基板)
      4. \r\n\t
    \r\n\t
    6. \r\n\t
  6. 儀器可使用之特殊製程材料。
    7. \r\n
\r\n
","page2Title":"自行操作規定","page2":"
\r\n
自行操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 取得儀器使用權限說明：\r\n\t\r\n\t
    2. \r\n\t
  2. 儀器開放等級及人數。
    3. \r\n\t
  3. 有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用：\r\n\t\r\n\t
    4. \r\n
\r\n
","page3Title":"委託操作規定","page3":"
\r\n
委託操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載Thermal Coater委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    2. \r\n\t
  2. 無國科會計畫者，請直接下載Thermal Coater委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    3. \r\n
\r\n
","page4Title":"收費標準","page4":"
\r\n
收費資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者依計畫付費標準計價，無國科會計畫者依非計畫付費標準計價。
    2. \r\n\t
  2. 材料費另計 (依鍍膜厚度及材料之不同需要) 4吋8片   6吋5片。
    3. \r\n\t
  3. 不可鍍銅(Cu)、金(Au)等污染性材料。
    4. \r\n\t
  4. 收費方式：\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 自行操作：收取開機費+材料費
      2. \r\n\t\t
    2. 委託操作：收取開機費+材料費+代工費
      3. \r\n\t
    \r\n\t
    5. \r\n\t
  5. 費用查詢連結：https://vir.nstc.gov.tw/VI_SearchResult?item=1
    6. \r\n
\r\n
","page5Title":null,"page5":null,"page6Title":null,"page6":null,"page7Title":null,"page7":null,"page8Title":null,"page8":null,"docs":[],"images":[{"fileurl":"https://www.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/image?module=corefacilities&detailNo=1164486563044790272&init=Y","expFile":"熱阻絲蒸鍍系統"}],"videos":[],"audios":[],"resources":[{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1721","relateName":"儀器列表"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1728&page=0&pageSize=15","relateName":"奈米製程領域儀器"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/view?module=corefacilities&id=1728&serno=f9499899-3b20-49d1-b874-d49898219f85","relateName":"雙電子槍蒸鍍系統 (B)"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/view?module=corefacilities&id=1728&serno=dfe55108-10f8-4376-9679-99cad30e0157","relateName":"雙電子槍蒸鍍系統 (A)"}]},{"subject":"【奈米製程領域】熱蒸鍍系統_雙電子槍蒸鍍系統 (A) / SEMI00001302","detailContent":"
\r\n
\"雙電子槍蒸鍍系統
\r\n\r\n\r\n
","dataClassName":null,"pubUnitName":"儀器資源中心","posterDate":null,"updateDate":"115-05-20","liaisonper":null,"liaisontel":null,"liaisonfax":null,"liaisonemail":null,"languageurl":null,"page1Title":"儀器介紹","page1":"
\r\n
奈米中心介紹頁連結
\r\n
\r\n儀器資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 廠牌型號：日本ULVAC EBX-10C
    2. \r\n\t
  2. 購置年限：1993年5月
    3. \r\n\t
  3. 放置地點：光復校區 固態電子系統大樓 3 樓實驗室   (TEL：55608) 
    4. \r\n\t
  4. 功能：可用於多層薄膜蒸鍍（限半導體製程常用之材料）
    5. \r\n\t
  5. 重要規格：\r\n\t
      \r\n\t\t
    • (1).EB gun Model EGK-3M*2.5kw EB power 2台
      • \r\n\t\t
    • (2).抽氣系統：RP + Cryo pump U-10 pu(2300 L/S N2)，最低壓力2*10¯6Torr
      • \r\n\t\t
    • (3).基板大小：4吋晶片18片或 6吋晶片3片+ 4吋6片
      • \r\n\t
    \r\n\t
    6. \r\n\t
  6. 儀器可使用之特殊製程材料。
    7. \r\n
\r\n
","page2Title":"自行操作規定","page2":"
\r\n
自行操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 取得儀器使用權限說明：\r\n\t\r\n\t
    2. \r\n\t
  2. 儀器開放等級及人數。
    3. \r\n\t
  3. 有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用：\r\n\t\r\n\t
    4. \r\n
\r\n
","page3Title":"委託操作規定","page3":"
\r\n
委託操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載E-Gun (A)委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    2. \r\n\t
  2. 無國科會計畫者，請直接下載E-Gun (A)委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    3. \r\n
\r\n
","page4Title":"收費標準","page4":"
\r\n
收費資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者依計畫付費標準計價，無國科會計畫者依非計畫付費標準計價。
    2. \r\n\t
  2. 材料費另計\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 一次滿載可放置4吋或3吋晶片18片，或6吋3片加4吋或3吋6片。
      2. \r\n\t\t
    2. 自備 Pt 請準備純度 99.99% 之顆粒，全新適用ULVAC機台用3cc之石墨坩鍋，至少填九成滿。自備材料者，因操作過程所造成任何之坩鍋及材料的損耗，本中心不予負責。
      3. \r\n\t\t
    3. Pt 每RUN厚度上限50nm 。
      4. \r\n\t
    \r\n\t
    3. \r\n\t
  3. 收費方式：\r\n\t
      \r\n\t\t
    • 自行操作：收取開機費+材料費
      • \r\n\t\t
    • 委託操作：收取開機費+材料費+代工費
      • \r\n\t
    \r\n\t
    4. \r\n\t
  4. 費用查詢連結：https://vir.nstc.gov.tw/VI_SearchResult?item=1
    5. \r\n
\r\n
","page5Title":null,"page5":null,"page6Title":null,"page6":null,"page7Title":null,"page7":null,"page8Title":null,"page8":null,"docs":[],"images":[{"fileurl":"https://www.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/image?module=corefacilities&detailNo=1164488405619314688&init=Y","expFile":"雙電子槍蒸鍍系統 A"}],"videos":[],"audios":[],"resources":[{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1721","relateName":"儀器列表"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1728&page=1&pageSize=15","relateName":"奈米製程領域儀器"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/view?module=corefacilities&id=1728&serno=f9499899-3b20-49d1-b874-d49898219f85","relateName":"雙電子槍蒸鍍系統 (B)"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/view?module=corefacilities&id=1728&serno=f6870376-95af-4c34-9538-3ba6f9044482","relateName":"熱阻絲蒸鍍系統"}]},{"subject":"【奈米製程領域】熱蒸鍍系統_雙電子槍蒸鍍系統 (B) / SEMI001303","detailContent":"
\r\n
\"雙電子槍蒸鍍系統
\r\n\r\n\r\n
","dataClassName":null,"pubUnitName":"儀器資源中心","posterDate":null,"updateDate":"115-05-20","liaisonper":null,"liaisontel":null,"liaisonfax":null,"liaisonemail":null,"languageurl":null,"page1Title":"儀器介紹","page1":"
\r\n
奈米中心介紹頁連結
\r\n
\r\n儀器資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 廠牌型號：日本ULVAC EBX-10C
    2. \r\n\t
  2. 購置年限：1993年5月
    3. \r\n\t
  3. 放置地點：光復校區 固態電子系統大樓 3 樓實驗室   (TEL：55608) 
    4. \r\n\t
  4. 功能：薄膜蒸鍍 (限半導體製程常用之材料)
    5. \r\n\t
  5. 重要規格：\r\n\t
      \r\n\t\t
    • EB gun Model EGL-35M * 5kw EB power
      • \r\n\t\t
    • Cryo pump U-10 pu (2300 L/S N2)，最低壓力3.0E-7 Torr
      • \r\n\t\t
    • 基板大小：4″、6″
      • \r\n\t
    \r\n\t
    6. \r\n\t
  6. 儀器可使用之特殊製程材料。
    7. \r\n
\r\n
","page2Title":"自行操作規定","page2":"
\r\n
自行操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 取得儀器使用權限說明：\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 白天權限申請流程說明 (使用權限為星期一至五8:00~17:00)
      2. \r\n\t\t
    2. 24小時申請流程說明 (需有白天權限才可申請)
      3. \r\n\t\t
    3. 注意事項 (務必詳讀，以免損失自身權益)
      4. \r\n\t\t
    4. E-Gun (B)儀器操作規範&考核記錄表
      5. \r\n\t
    \r\n\t
    2. \r\n\t
  2. 儀器開放等級及人數。
    3. \r\n\t
  3. 有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用：\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統 (取得序號)
      2. \r\n\t\t
    2. 奈米中心儀器預約系統 (使用時段預約)
      3. \r\n\t
    \r\n\t
    4. \r\n
\r\n
","page3Title":"委託操作規定","page3":"
\r\n
委託操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載 E-Gun (B)委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    2. \r\n\t
  2. 無國科會計畫者，請直接下載 E-Gun (B)委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    3. \r\n
\r\n
","page4Title":"收費標準","page4":"
\r\n
收費資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者依計畫付費標準計價，無國科會計畫者依非計畫付費標準計價。
    2. \r\n\t
  2. 材料費另計：一次滿載可放置4吋晶片18片，或6吋9片。
    3. \r\n\t
  3. 收費方式：\r\n\t
      \r\n\t\t
    • 自行操作：收取開機費+材料費
      • \r\n\t\t
    • 委託操作：收取開機費+材料費+代工費
      • \r\n\t
    \r\n\t
    4. \r\n\t
  4. 費用查詢連結：https://vir.nstc.gov.tw/VI_SearchResult?item=1
    5. \r\n
\r\n
","page5Title":null,"page5":null,"page6Title":null,"page6":null,"page7Title":null,"page7":null,"page8Title":null,"page8":null,"docs":[],"images":[{"fileurl":"https://www.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/image?module=corefacilities&detailNo=1164490137548099584&init=Y","expFile":"雙電子槍蒸鍍系統 B"}],"videos":[],"audios":[],"resources":[{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1721","relateName":"儀器列表"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1728&page=1&pageSize=15","relateName":"奈米製程領域儀器"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/view?module=corefacilities&id=1728&serno=dfe55108-10f8-4376-9679-99cad30e0157","relateName":"雙電子槍蒸鍍系統 (A)"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/view?module=corefacilities&id=1728&serno=f6870376-95af-4c34-9538-3ba6f9044482","relateName":"熱阻絲蒸鍍系統"}]},{"subject":"【奈米製程領域】高真空鍍膜系統_高真空鍍膜系統 / SEMI000604","detailContent":"
\r\n
\"高真空鍍膜系統\"
\r\n\r\n\r\n
","dataClassName":null,"pubUnitName":"儀器資源中心","posterDate":null,"updateDate":"115-05-20","liaisonper":null,"liaisontel":null,"liaisonfax":null,"liaisonemail":null,"languageurl":null,"page1Title":"儀器介紹","page1":"
\r\n
奈米中心介紹頁連結
\r\n
\r\n儀器資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 廠牌型號：高敦科技 KD-Cluster
    2. \r\n\t
  2. 購置年限：2018年11月
    3. \r\n\t
  3. 放置地點：光復校區 固態電子系統大樓 3 樓實驗室  (TEL：55608)
    4. \r\n\t
  4. 功能：多層薄膜濺鍍、蒸鍍
    5. \r\n\t
  5. 重要規格：\r\n\t
      \r\n\t\t
    • (1).高真空樣品取放系統。(樣品表面可電漿清洗)
      • \r\n\t\t
    • (2).高真空樣品傳送系統。(最大可傳送6吋樣品座)
      • \r\n\t\t
    • (3).高真空電子束蒸鍍系統。(含電子束蒸鍍源 6kw兩組、高壓電源供應器 6kw兩台、X-Y電子束掃描控制器兩台。)
      • \r\n\t\t
    • (4).高真空濺鍍系統。(含DC Power 2 kw一台與RF Power 1 kw一台。)
      • \r\n\t\t
    • (5).可同時放置三組 Holder，每組Holder分別可放置6吋、4吋、3吋、2吋wafer或破片夾持盤。
      • \r\n\t
    \r\n\t
    6. \r\n\t
  6. 儀器可使用之特殊製程材料
    7. \r\n
\r\n
","page2Title":"自行操作規定","page2":"
\r\n
自行操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 取得儀器使用權限說明：\r\n\t\r\n\t
    2. \r\n\t
  2. 儀器開放等級及人數。
    3. \r\n\t
  3. 有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用：\r\n\t\r\n\t
    4. \r\n
\r\n
","page3Title":"委託操作規定","page3":"
\r\n
委託操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載 HVD System 委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    2. \r\n\t
  2. 無國科會計畫者，請直接下載 HVD System 委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    3. \r\n
\r\n
","page4Title":"收費標準","page4":"
\r\n
收費資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 貴儀核可項目，有貴儀帳號者請上網預約，無貴儀帳號者請現金付費。
    2. \r\n\t
  2. 材料費另計，每次滿載 可放置 6吋、4吋、3吋或2吋晶片，共 3片。
    3. \r\n\t
  3. 收費方式\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 自行操作：收取開機費+材料費
      2. \r\n\t\t
    2. 委託操作：收取開機費+材料費+代工費
      3. \r\n\t
    \r\n\t
    4. \r\n\t
  4. 費用如下表  ※貴重金屬之時價以國際現貨價格為參考訂定。
    5. \r\n
\r\n
\r\n\r\n
\r\n
\r\n\r\n\t\r\n\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\r\n
計畫定價
 學校單位研究單位營利事業單位
代工費 (NTD/次)900900900
開機費 (NTD/次)75011001100
Sputter材料費  (NTD/KA)Ti=140   /  Ni=170   /   Ta=220   /  Al=85
E-Gun材料費  (NTD/KA)Ge=70  /  Ti=70  /  Mo=60  /  Ta=100  /  Co=60  /  W=60  /  Ni=50  /  Cr=70  /  Si=50  /  Pt=時價  /  Pd=時價
\r\n
\r\n
\r\n \r\n\r\n
\r\n
\r\n\r\n\t\r\n\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\r\n
非計畫定價
 學校單位研究單位營利事業單位
代工費 (NTD/次)900900900
開機費 (NTD/次)15001100011000
Sputter材料費  (NTD/KA)Ti=280   /  Ni=340   /   Ta=440   /  Al=170Ti=1400   /  Ni=1700   /   Ta=2200   /  Al=850Ti=1400   /  Ni=1700   /   Ta=2200   /  Al=850
E-Gun材料費  (NTD/KA)Ge=140  /  Ti=140  /  Mo=120  /  Ta=200  /  Co=120  /  W=120  /  Ni=100  /  Cr=140  /  Si=100  /  Pt=時價  /  Pd=時價Ge=700  /  Ti=700 /  Mo=600  /  Ta=1000  /  Co=600  /  W=600  /  Ni=500  /  Cr=700  /  Si=500  /  Pt=時價  /  Pd=時價Ge=700  /  Ti=700 /  Mo=600  /  Ta=1000  /  Co=600  /  W=600  /  Ni=500  /  Cr=700  /  Si=500  /  Pt=時價  /  Pd=時價
\r\n
\r\n
","page5Title":null,"page5":null,"page6Title":null,"page6":null,"page7Title":null,"page7":null,"page8Title":null,"page8":null,"docs":[],"images":[{"fileurl":"https://www.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/image?module=corefacilities&detailNo=1164494415679459328&init=Y","expFile":"高真空鍍膜系統"}],"videos":[],"audios":[],"resources":[{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1721","relateName":"儀器列表"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1728","relateName":"奈米製程領域儀器"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/view?module=corefacilities&id=1728&serno=098ad0d9-1bf9-4224-bd5a-61d910a35fd4","relateName":"真空濺鍍系統 (B)"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/view?module=corefacilities&id=1721&serno=7a66ade3-3290-4841-a653-f158d9f40ff3","relateName":"真空濺鍍系統 (A)"}]},{"subject":"【奈米製程領域】高真空鍍膜系統_真空濺鍍系統 (A) / SEMI000603","detailContent":"
\r\n
\"真空濺鍍系統
\r\n\r\n\r\n
","dataClassName":null,"pubUnitName":"儀器資源中心","posterDate":null,"updateDate":"115-05-20","liaisonper":null,"liaisontel":null,"liaisonfax":null,"liaisonemail":null,"languageurl":null,"page1Title":"儀器介紹","page1":"
\r\n
奈米中心介紹頁連結
\r\n
\r\n儀器資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 廠牌型號：英國 Ion Tech Microvac 450CB
    2. \r\n\t
  2. 購置年限：1991年4月
    3. \r\n\t
  3. 放置地點：光復校區 固態電子系統大樓 3 樓實驗室  (TEL：55608) 
    4. \r\n\t
  4. 功能：薄膜濺鍍
    5. \r\n\t
  5. 重要規格\r\n\t
      \r\n\t\t
    • (1) 3支4吋濺鍍陰極
      • \r\n\t\t
    • (2) POWER: DC 1500W*2台與RF:600W*1台
      • \r\n\t\t
    • (3) 可放4吋晶片6片 或 6吋晶片3片
      • \r\n\t\t
    • (4) 氣體：MFC for Ar, O2，N2
      • \r\n\t\t
    • (5) 抽氣系統：RP + Cryo Pump
      • \r\n\t\t
    • (6) 可鍍多層膜
      • \r\n\t
    \r\n\t
    6. \r\n\t
  6. 儀器可使用之特殊製程材料
    7. \r\n
\r\n
","page2Title":"自行操作規定","page2":"
\r\n
自行操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 取得儀器使用權限說明：\r\n\t\r\n\t
    2. \r\n\t
  2. 儀器開放等級及人數。
    3. \r\n\t
  3. 有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用：\r\n\t\r\n\t
    4. \r\n
\r\n
","page3Title":"委託操作規定","page3":"
\r\n
委託操作儀器:
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載Sputter 委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    2. \r\n\t
  2. 無國科會計畫者，請直接下載Sputter 委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    3. \r\n
\r\n
","page4Title":"收費標準","page4":"
\r\n
收費資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 貴儀核可項目，有貴儀帳號者請上網預約，無貴儀帳號者請現金付費。
    2. \r\n\t
  2. 材料費另計:\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 貴重金屬Pt每run厚度上限50nm。
      2. \r\n\t\t
    2. 可擺4吋或3吋晶片6片，6吋3片。
      3. \r\n\t
    \r\n\t
    3. \r\n\t
  3. 收費方式\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 自行操作：收取開機費+材料費
      2. \r\n\t\t
    2. 委託操作：收取開機費+材料費+代工費
      3. \r\n\t
    \r\n\t
    4. \r\n\t
  4. 費用如下表  ※貴重金屬之時價以國際現貨價格為參考訂定。
    5. \r\n
\r\n
\r\n\r\n
\r\n
\r\n\r\n\t\r\n\t\r\n\t\r\n\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\r\n
計畫定價
 學校單位研究單位營利事業單位
代工費 (NTD/次)900900900
開機費 (NTD/次)600900900
材料費  (NTD/KA)Al=85  /  Co=90  /  Cr=110   /  Cu=70  /  Fe=70  /  Mg=110  /  Mo=70  /  Ni=170  /  Ta=220  /  Ti=140  /  TiW=200  /  W=110  /  TaSi2=220  /  W5Si=110  /  Pt=時價  /  Pd=時價
\r\n
\r\n
\r\n \r\n\r\n
\r\n
\r\n\r\n\t\r\n\t\r\n\t\r\n\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\r\n
非計畫定價
 學校單位研究單位營利事業單位
代工費 (NTD/次)900900900
開機費 (NTD/次)120090009000
材料費  (NTD/KA)(學校單位):Al=170  /  Co=180  /  Cr=220  /  Cu=140  /  Fe=140  /  Mg=220  /  Mo=140  /  Ni=340  /  Ta=440  /  Ti=280  /  TiW=400  /  W=220  /  TaSi2=440  /  W5Si=220  /  Pt=時價   /  Pd=時價(研究/營利事業單位):Al=850  /  Co=900  /  Cr=1100  /  Cu=700  /  Fe=700  /  Mg=1100  /  Mo=700  /  Ni=1700  /  Ta=2200  /  Ti=1400  /  TiW=2000  /  W=1100  /  TaSi2=2200  /  W5Si=1100  /  Pt=時價   /  Pd=時價
\r\n
\r\n
","page5Title":null,"page5":null,"page6Title":null,"page6":null,"page7Title":null,"page7":null,"page8Title":null,"page8":null,"docs":[],"images":[{"fileurl":"https://www.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/image?module=corefacilities&detailNo=1164824640611160064&init=Y","expFile":"真空濺鍍系統 A"}],"videos":[],"audios":[],"resources":[{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1721","relateName":"儀器列表"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1728&page=1&pageSize=15","relateName":"奈米製程領域儀器"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/view?module=corefacilities&id=1728&serno=098ad0d9-1bf9-4224-bd5a-61d910a35fd4","relateName":"真空濺鍍系統 (B)"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/view?module=corefacilities&id=1728&serno=1c41e47e-dca3-4741-953c-1136ff1a8f9d","relateName":"高真空鍍膜系統"}]},{"subject":"【奈米製程領域】高真空鍍膜系統_真空濺鍍系統 (B) / \tSEMI000602","detailContent":"
\r\n
\"真空濺鍍系統
\r\n\r\n\r\n
","dataClassName":null,"pubUnitName":"儀器資源中心","posterDate":null,"updateDate":"115-05-20","liaisonper":null,"liaisontel":null,"liaisonfax":null,"liaisonemail":null,"languageurl":null,"page1Title":"儀器介紹","page1":"
\r\n
奈米中心介紹頁連結
\r\n
\r\n儀器資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 廠牌型號：高敦科技股份有限公司
    2. \r\n\t
  2. 購置年限：2009年4月
    3. \r\n\t
  3. 放置地點：光復校區 固態電子系統大樓 3 樓實驗室  (TEL：55608) 
    4. \r\n\t
  4. 功能：薄膜濺鍍
    5. \r\n\t
  5. 重要規格：\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 人機界面
      2. \r\n\t\t
    2. 3支6吋濺鍍陰極
      3. \r\n\t\t
    3. 可放6片WAFER(6吋or4吋皆可，可自行分配，共6片)
      4. \r\n\t\t
    4. POWER：DC:2500W*2台與RF:1000W*1台
      5. \r\n\t\t
    5. 氣體：MFC for Ar、N2與O2
      6. \r\n\t\t
    6. 抽氣系統：RP + Cryo Pump
      7. \r\n\t\t
    7. 可鍍多層膜
      8. \r\n\t\t
    8. 基板載台轉速0~30rpm，可調控
      9. \r\n\t\t
    9. 可升溫至300℃
      10. \r\n\t
    \r\n\t
    6. \r\n\t
  6. 儀器可使用之特殊製程材料
    7. \r\n
\r\n
","page2Title":"自行操作規定","page2":"
\r\n
自行操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 取得儀器使用權限說明：\r\n\t\r\n\t
    2. \r\n\t
  2. 儀器開放等級及人數。
    3. \r\n\t
  3. 有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用：\r\n\t\r\n\t
    4. \r\n
\r\n
","page3Title":"委託操作規定","page3":"
\r\n
委託操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載 Sputter 委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    2. \r\n\t
  2. 無國科會計畫者，請直接下載 Sputter 委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    3. \r\n
\r\n
","page4Title":"收費標準","page4":"
\r\n
收費資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 貴儀核可項目，有貴儀帳號者請上網預約，無貴儀帳號者請現金付費。
    2. \r\n\t
  2. 可擺4吋或6吋晶片共6片。
    3. \r\n\t
  3. 收費方式\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 自行操作：收取開機費+材料費
      2. \r\n\t\t
    2. 委託操作：收取開機費+材料費+代工費
      3. \r\n\t
    \r\n\t
    4. \r\n\t
  4. 費用如下表  ※貴重金屬之時價以國際現貨價格為參考訂定。
    5. \r\n
\r\n
\r\n\r\n
\r\n
\r\n\r\n\t\r\n\t\r\n\t\r\n\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\r\n
計畫定價
 學校單位研究單位營利事業單位
代工費 (NTD/次)900900900
開機費 (NTD/次)75011001100
材料費  (NTD/KA) Ti=140   /  Ni=280   /   Ta=550   /  Hf=940
\r\n
\r\n
\r\n \r\n\r\n
\r\n
\r\n\r\n\t\r\n\t\r\n\t\r\n\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\t\r\n\t\t\r\n\t\r\n
非計畫定價
 學校單位研究單位營利事業單位
代工費 (NTD/次)900900900
開機費 (NTD/次)120090009000
材料費  (NTD/KA)(學校單位): Ti=280   /  Ni=560   /    Ta=1100   /  Hf=1880(研究/營利事業單位): Ti=1400   /  Ni=2800   /   Ta=5500   /  Hf=9400
\r\n
\r\n
","page5Title":null,"page5":null,"page6Title":null,"page6":null,"page7Title":null,"page7":null,"page8Title":null,"page8":null,"docs":[],"images":[{"fileurl":"https://www.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/image?module=corefacilities&detailNo=1164824381830991872&init=Y","expFile":"真空濺鍍系統 B"}],"videos":[],"audios":[],"resources":[{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1721","relateName":"儀器列表"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1728&page=1&pageSize=15","relateName":"奈米製程領域儀器"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/view?module=corefacilities&id=1728&serno=7a66ade3-3290-4841-a653-f158d9f40ff3","relateName":"真空濺鍍系統 (A)"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/view?module=corefacilities&id=1728&serno=1c41e47e-dca3-4741-953c-1136ff1a8f9d","relateName":"高真空鍍膜系統"}]},{"subject":"【奈米製程領域】原子層沉積系統 / SEMI004000","detailContent":"
\r\n
\"原子層沉積系統\"
\r\n\r\n\r\n
","dataClassName":null,"pubUnitName":"儀器資源中心","posterDate":null,"updateDate":"115-05-20","liaisonper":null,"liaisontel":null,"liaisonfax":null,"liaisonemail":null,"languageurl":null,"page1Title":"儀器介紹","page1":"
\r\n
奈米中心介紹頁連結
\r\n
\r\n儀器資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 廠牌型號：Veeco Fiji-G2
    2. \r\n\t
  2. 購置年度：2023年
    3. \r\n\t
  3. 放置地點：光復校區 固態電子系統大樓 1樓 A122 實驗室　(TEL：55616)
    4. \r\n\t
  4. 功能：沉積Al2O3、HfO2、TiN、ZrO2、TiO2薄膜
    5. \r\n\t
  5. 重要規格：\r\n\t
      \r\n\t\t
    • 可使用晶圓尺寸：破片至8吋
      • \r\n\t\t
    • 雙腔體：Chamber A－前段介電層薄膜沉積，Chamber B－後段介電層和金屬薄膜沉積
      • \r\n\t\t
    • 可進行熱沉積(thermal deposition)及電漿輔助沉積(plasma-enhanced deposition)
      • \r\n\t\t
    • 使用氣體：Ar、N2、O2、NH3、H2、CF4
      • \r\n\t
    \r\n\t
    6. \r\n\t
  6. 儀器可使用之特殊製程材料
    7. \r\n
\r\n
","page2Title":"注意事項","page2":"
\r\n
注意事項
\r\n\r\n
1.使用Chamber A之試片不得含有金屬薄膜或經過後段製程，並且沉積前須先進RCA clean。
\r\n2.請詳細說明基板晶片材質及其上含何種物質。
\r\n3.Chamber A可進基板材質：Si、Ge。
\r\n4.每件委託代工申請單以3個run或6個小時製程時間為限。
\r\n
","page3Title":"自行操作規定","page3":"
\r\n
自行操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 取得儀器使用權限說明：\r\n\t\r\n\t
    2. \r\n\t
  2. 儀器開放等級及人數。
    3. \r\n\t
  3. 有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用：\r\n\t\r\n\t
    4. \r\n
\r\n
","page4Title":"委託操作規定","page4":"
\r\n
委託操作儀器
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載 ALD委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    2. \r\n\t
  2. 無國科會計畫者，請直接下載 ALD委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    3. \r\n
\r\n
","page5Title":"收費標準","page5":"
\r\n
收費資訊
\r\n\r\n
    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者依計畫付費標準計價，無國科會計畫者依非計畫付費標準計價。
    2. \r\n\t
  2. 不足一小時以一小時計算。
    3. \r\n\t
  3. Clean之費用詳見Wet_Bench收費表。
    4. \r\n\t
  4. 收費方式：\r\n\t
      \r\n\t\t
    • 自行操作：收取製作費+材料費
      • \r\n\t\t
    • 委託操作：收取製作費+材料費+代工費
      • \r\n\t
    \r\n\t
    5. \r\n\t
  5. 費用查詢連結：https://vir.nstc.gov.tw/VI_SearchResult?item=1
    6. \r\n
\r\n
","page6Title":null,"page6":null,"page7Title":null,"page7":null,"page8Title":null,"page8":null,"docs":[],"images":[{"fileurl":"https://www.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/image?module=corefacilities&detailNo=1242372538999246848&init=Y","expFile":"ALD"}],"videos":[],"audios":[],"resources":[{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1721","relateName":"儀器列表"},{"relateURL":"https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1728&page=1&pageSize=15","relateName":"奈米製程領域儀器"}]}]