<![CDATA[【奈米製程領域】介電材料活性離子蝕刻系統 (A) / SEMI002500]]><![CDATA[<div class="ed_model05 clearfix"> <div class="ed_pic_right"><img alt="介電材料活性離子蝕刻系統 A" src="/userfiles/ordch/images/20231019154456996.jpg" /></div> <ul> <li class="ed_txt"><a href="https://nanofc.web.nycu.edu.tw/%e4%bb%8b%e9%9b%bb%e6%9d%90%e6%96%99%e6%b4%bb%e6%80%a7%e9%9b%a2%e5%ad%90%e8%9d%95%e5%88%bb%e7%b3%bb%e7%b5%b1-adielectric-materials-reactive-ion-etching-system-rie-400ip/" rel="noreferrer noopener" target="_blank" title="Dielectric Materials Reactive Ion Etching System, RIE-400iP(開啟新視窗)">Dielectric Materials Reactive Ion Etching System, RIE-400iP</a> <ul> <li class="ed_txt">廠牌型號：日本SamCo公司製造 RIE-400iP</li> </ul> </li> <li class="ed_txt"><strong>儀器專家：崔秉鉞教授</strong> <ul> <li class="ed_txt">03-5712121分機 31570</li> </ul> </li> <li class="ed_txt"><strong>儀器設備管理人員：胡進章先生</strong> <ul> <li class="ed_txt">03-5712121分機 55607、55666</li> <li class="ed_txt">信箱<a href="mailto: jackhu@nycu.edu.tw" title=" jackhu@nycu.edu.tw"> jackhu@nycu.edu.tw</a></li> </ul> </li> <li class="ed_txt"><strong>儀器設備管理人員：李正維先生</strong> <ul> <li class="ed_txt">03-5712121分機 55660、55666</li> <li class="ed_txt">信箱 <a href="mailto:cwlee@nycu.edu.tw" title="cwlee@nycu.edu.tw">cwlee@nycu.edu.tw</a></li> </ul> </li> <li class="ed_txt"><strong>儀器位置：光復校區固態電子系統大樓 1樓121實驗室</strong></li> </ul> </div>]]>儀器資源中心115-05-20儀器介紹<div class="ed_model01 clearfix"> <div class="ed_txt"><a href="https://nanofc.web.nycu.edu.tw/%e4%bb%8b%e9%9b%bb%e6%9d%90%e6%96%99%e6%b4%bb%e6%80%a7%e9%9b%a2%e5%ad%90%e8%9d%95%e5%88%bb%e7%b3%bb%e7%b5%b1-adielectric-materials-reactive-ion-etching-system-rie-400ip/" rel="noreferrer noopener" target="_blank" title="奈米中心介紹頁連結(開啟新視窗)">奈米中心介紹頁連結</a><br /> <br /> <strong>儀器資訊</strong></div> <ol> <li class="ed_txt">廠牌型號：日本SamCo公司製造 RIE-400iP。</li> <li class="ed_txt">購置年限：2019年3月4日。</li> <li class="ed_txt">放置地點：光復校區固態電子系統大樓 1樓121實驗室  (TEL：55610)。   </li> <li class="ed_txt">功能：乾式蝕刻，蝕刻碳化矽(SiC)為主，特殊時機可以蝕刻介電質(SiO2、Si3N4)材料，4″ wafer為主。</li> <li class="ed_txt">重要規格：本蝕刻系統可通入C4F8、O2、SF6、CHF3等氣體蝕刻碳化矽(SiC)及介電質(SiO2、Si3N4)。</li> <li class="ed_txt">儀器可使用之<a href="/userfiles/ordch/files/20240611134752422.pdf" title="特殊製程材料(pdf)">特殊製程材料</a>。</li> </ol> </div>注意事項<div class="ed_model01 clearfix"> <div class="ed_txt"><strong>注意事項</strong></div> <ol> <li class="ed_txt">材料限制： <ol> <li class="ed_txt">限碳化矽(SiC)基板與Si基板。</li> <li class="ed_txt">試片上不得有摻雜金屬元素或鍍有金屬薄膜。</li> <li class="ed_txt">試片不得經過後段製程機台。</li> </ol> </li> <li class="ed_txt">請詳細說明基板上含何種物質(如Poly-Si、SiO2、Si3N4、光阻等)，以及是否要清洗晶片。</li> <li class="ed_txt">蝕刻若無特別要求，一律按中心標準製程參數為之。</li> </ol> </div>自行操作規定<div class="ed_model01 clearfix"> <div class="ed_txt"><strong>自行操作儀器</strong></div> <ol> <li class="ed_txt">取得儀器使用權限說明： <ul> <li class="ed_txt"><a href="https://nanofc.web.nycu.edu.tw/%e5%a5%88%e7%b1%b3%e4%b8%ad%e5%bf%83%e7%94%b3%e8%ab%8b%e6%b5%81%e7%a8%8b/" rel="noreferrer noopener" target="_blank" title="白天權限申請流程說明(開啟新視窗)">白天權限申請流程說明</a> (使用權限為星期一至五8:00~17:00)</li> <li class="ed_txt"><a href="https://nanofc.web.nycu.edu.tw/24%e5%b0%8f%e6%99%82%e5%90%ab%e5%81%87%e6%97%a5%e9%96%80%e7%a6%81%e5%8f%8a%e8%a8%ad%e5%82%99%e6%ac%8a%e9%99%90%e7%94%b3%e8%ab%8b%e6%b5%81%e7%a8%8b/" rel="noreferrer noopener" target="_blank" title="24小時申請流程說明(開啟新視窗)">24小時申請流程說明</a> (需有白天權限才可申請)</li> <li class="ed_txt"><a href="https://nanofc.web.nycu.edu.tw/%e5%84%80%e5%99%a8%e7%94%b3%e8%ab%8b%e6%b3%a8%e6%84%8f%e4%ba%8b%e9%a0%85/" rel="noreferrer noopener" target="_blank" title="注意事項(開啟新視窗)">注意事項</a> (務必詳讀，以免損失自身權益)</li> <li class="ed_txt">RIE-400iP儀器<a href="/userfiles/ordch/files/20240611151416279.pdf" rel="noreferrer noopener" target="_blank" title="操作規範(pdf)(開啟新視窗)">操作規範</a>&<a href="/userfiles/ordch/files/20240611151437418.pdf" rel="noreferrer noopener" target="_blank" title="考核記錄表(pdf)(開啟新視窗)">考核記錄表</a></li> </ul> </li> <li class="ed_txt"><a href="https://nanofc.web.nycu.edu.tw/%e5%84%80%e5%99%a8%e9%96%8b%e6%94%be%e7%ad%89%e7%b4%9a%e3%80%81%e4%ba%ba%e6%95%b8%e3%80%81%e8%a8%93%e7%b7%b4%e6%ac%a1%e6%95%b8open-level-open-people-training-times/" rel="noreferrer noopener" target="_blank" title="儀器開放等級及人數(開啟新視窗)">儀器開放等級及人數</a>。</li> <li class="ed_txt">有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用： <ul> <li class="ed_txt">(1).國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統 (取得序號)</li> <li class="ed_txt">(2).<a href="https://nfcmachin.ece.nycu.edu.tw/" rel="noreferrer noopener" target="_blank" title="奈米中心儀器預約系統(開啟新視窗)">奈米中心儀器預約系統</a> (使用時段預約)</li> </ul> </li> </ol> </div>委託操作規定<div class="ed_model01 clearfix"> <div class="ed_txt"><strong>委託操作儀器</strong></div> <ol> <li class="ed_txt">有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載<a href="/userfiles/ordch/files/20240612085732094.odt" rel="noreferrer noopener" target="_blank" title="RIE-400iP委託代工申請單(odt)(開啟新視窗)">RIE-400iP委託代工申請單</a>，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。</li> <li class="ed_txt">無國科會計畫者，請直接下載<a href="/userfiles/ordch/files/20240612085732094.odt" rel="noreferrer noopener" target="_blank" title="RIE-400iP委託代工申請單(odt)(開啟新視窗)">RIE-400iP委託代工申請單</a>，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。</li> </ol> </div>收費標準<div class="ed_model01 clearfix"> <div class="ed_txt"><strong>收費資訊</strong></div> <ol> <li class="ed_txt"><span style="color:#ff0000;">有國科會計畫者依計畫付費標準計價，無國科會計畫者依非計畫付費標準計價。</span></li> <li class="ed_txt">收費方式 <ul> <li class="ed_txt">自行操作：收取使用費</li> <li class="ed_txt">委託操作：收取使用費+代工費</li> </ul> </li> <li class="ed_txt">費用查詢連結：https://vir.nstc.gov.tw/VI_SearchResult?item=1</li> </ol> </div>https://www.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/image?module=corefacilities&detailNo=1164470830663471104&init=Y介電材料活性離子蝕刻系統 Ahttps://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1721儀器列表https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/list?module=corefacilities&id=1728奈米製程領域儀器https://ord.nycu.edu.tw/ord/ch/app/machine/view?module=corefacilities&id=1728&serno=ea38a997-2188-48e1-906c-d24fb52a2f0c介電材料活性離子蝕刻系統 (B)