{"subject":"【奈米製程領域】圖形產生系統 / SEMI002701","detailContent":"
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\"圖形產生系統\"
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圖形產生系統
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","dataClassName":null,"pubUnitName":"儀器資源中心","posterDate":null,"updateDate":"115-05-20","liaisonper":null,"liaisontel":null,"liaisonfax":null,"liaisonemail":null,"languageurl":null,"page1Title":"儀器介紹","page1":"
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奈米中心介紹頁連結
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\r\n儀器資訊
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    \r\n\t
  1. 廠牌型號：Raith VOYAGER
    2. \r\n\t
  2. 購置年限：2019年
    3. \r\n\t
  3. 放置地點：光復校區 固態電子系統大樓 1樓118實驗室 (TEL：55667)
    4. \r\n\t
  4. 功能：薄膜光阻曝寫
    5. \r\n\t
  5. 重要規格：\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 曝光源：電子束(Electron Beam)
      2. \r\n\t\t
    2. Maximum beam energy：50kV
      3. \r\n\t\t
    3. Maximum write field：500μm
      4. \r\n\t\t
    4. 50MHz Pattern Generator
      5. \r\n\t
    \r\n\t
    6. \r\n\t
  6. 儀器可使用之特殊製程材料
    7. \r\n
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","page2Title":"注意事項","page2":"
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注意事項
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    \r\n\t
  1. 正表列：試片表面平整 (厚度小於1mm)(例如Si、SiC、GaAs、GaN等材料)
    2. \r\n\t
  2. 負表列(禁止使用)：\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 磁性材料、粉末材料、壓電材料、合成光阻
      2. \r\n\t\t
    2. 低融點材料
      3. \r\n\t\t
    3. 所有在電子束照射下會分解或釋出氣體及有礙真空維持之材料
      4. \r\n\t
    \r\n\t
    3. \r\n
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","page3Title":"自行操作規定","page3":"
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    \r\n\t
  1. 取得儀器使用權限說明：\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 白天權限申請流程說明 (使用權限為星期一至五8:00~17:00)
      2. \r\n\t\t
    2. 24小時申請流程說明 (需有白天權限才可申請)
      3. \r\n\t\t
    3. 注意事項 (務必詳讀，以免損失自身權益)
      4. \r\n\t\t
    4. 圖形產生系統操作規範&考核記錄表
      5. \r\n\t
    \r\n\t
    2. \r\n\t
  2. 儀器開放等級及人數，相關注意事項如下：\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 同一實驗室原則上開放3人自行操作，不限碩博士生(但以博士生優先)，如有需求需經儀器管理教授同意得增加至4人。
      2. \r\n\t\t
    2. 申請本設備自行操作者，需有奈米中心SEM儀器使用經驗(累積操作時數至少20小時)，如使用經驗為非奈米中心SEM儀器者，需填寫切結書。
      3. \r\n\t\t
    3. 需附SEM操作累積時數20小時證明文件(實驗自行操作紀錄本影本或其他證明文件並由機台管理人簽章。)
      4. \r\n\t\t
    4. 本設備自行操作訓練次數為5次。
      5. \r\n\t\t
    5. 擔任本設備之訓練員者，需先取得本設備之24小時自行操作權限。
      6. \r\n\t\t
    6. 經考核通過後，超過3個月未使用設備者，取消其操作權限。
      7. \r\n\t
    \r\n\t
    3. \r\n\t
  3. 有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用:\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統 (取得序號)
      2. \r\n\t\t
    2. 奈米中心儀器預約系統 (使用時段預約)
      3. \r\n\t
    \r\n\t
    4. \r\n
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","page4Title":"委託操作規定","page4":"
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委託操作儀器
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    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載圖形產生系統委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    2. \r\n\t
  2. 無國科會計畫者，請直接下載圖形產生系統委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
    3. \r\n
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","page5Title":"收費標準","page5":"
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收費資訊
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    \r\n\t
  1. 有國科會計畫者依計畫付費標準計價，無國科會計畫者依非計畫付費標準計價。
    2. \r\n\t
  2. 晶片由使用者自備。
    3. \r\n\t
  3. 委託圖形曝寫需使用NFC光阻時，委託塗佈材料費：800元(破片2片以內或4吋1片，現金收費)。
    4. \r\n\t
  4. 光罩曝寫視圖案情況，經評估後另行報價
    5. \r\n\t
  5. 收費方式：\r\n\t
      \r\n\t\t
    1. 自行操作：收取使用費
      2. \r\n\t\t
    2. 委託操作：收取使用費+代工費
      3. \r\n\t
    \r\n\t
    6. \r\n\t
  6. 費用查詢連結：https://vir.nstc.gov.tw/VI_SearchResult?item=1
    7. \r\n
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