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國立陽明交通大學研究發展處

儀器列表

  • 奈米製程領域

  • 更新日期:113-06-27
  • 發布單位:儀器資源中心
【奈米製程領域】氧化擴散系統
氧化擴散系統
  • OXIDATION & DIFFUSION FURNACES
    • 廠牌型號:森積 SJ-CA1200-D4
  • 儀器專家:劉柏村 教授
    • 分機 52994
  • 儀器諮詢與操作服務:倪月珍 小姐
  • 儀器位置:光復校區 固態電子系統大樓121室
  1. 廠牌型號: 森積  SJ-CA1200-D4
  2. 購置年限: 2012年12月
  3. 放置地點:光復校區 固態電子系統大樓 1樓 131實驗室 (TEL:55616)   
  4. 功能:
    • 濕氧氧化、乾氧氧化(dry & wet oxidation)
    • N型,P型晶片(退火)
    • SiO2 / Si,High-K / Si .Ge (Sintering)
    • Al退火
  5. 重要規格:
    • 加熱最高溫度1100°C
    • 加熱區長度900mm,爐管(chamber)口徑6″
    • 恆溫區600mm ±1℃於1000℃(三點測量)
    • 0~1100°C加熱時間2小時
  6. 儀器可使用之特殊製程材料
自行操作儀器
  1. 需已擁有Wet Bench使用權限才可申使用請氧化擴散系統。
  2. 取得儀器使用權限說明:
  3. 儀器開放等級及人數
  4. 有儀器使用權限後,需登入下列系統取得序號並預約使用:
  5. 管理及使用辦法:
    1. 爐管預約使用以四個小時為一個區段,可適用的爐管為Wet Oxidation、P+ Annealing 、N+ Annealing、Dry Oxidation等爐管。
    2. 每個爐管其預約製程使用時間最多三個區段(三個區段),同一爐管預約使用在一週內製程使用時間最多兩(含兩次)。
    3. 預約方式:每週一起可預約當週及下週時段。
    4. 預約取消突發狀況,導致無法於預約時段內操作該項儀器設備者,應以預約三小時之前取消預約登記,預約未做且未取消時段,其空出時段得由儀器設備管理人開放出來給其他使用者操作使用之。
    5. 預約登記使用超過30分鐘未到者,視同預約取消,其時段得由其他使用者使用之。
    6. 實驗做完應確實填寫使用記錄簿。 
委託操作儀器:
  1. 有國科會計畫者,請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號,再下載氧化擴散系統委託代工申請單,將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
  2. 無國科會計畫者,請直接下載氧化擴散系統委託代工申請單,將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
收費資訊
  1. 有國科會計畫者依計畫付費標準計價,無國科會計畫者依非計畫付費標準計價。
  2. 本中心規定最高溫度為1100oC,3″及4″晶片,一次最多25片。
  3. 不足一小時以一小時計算。
  4. 進入爐管之wafer,須先Clean,Clean之費用詳見Wet_Bench收費表。
  5. 收費方式:
    • 自行操作:收取開機費+製作費
    • 委託操作:收取開機費+製作費+代工費
  6. 費用查詢連結
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