儀器列表
EN奈米製程領域
- 更新日期：113-06-11
- 發布單位：儀器資源中心
【奈米製程領域】光罩製作系統(DWL-200)
- LASER PATTERN GENERATOR
- 廠牌型號：HIMT DWL-200
- 儀器專家：李佩雯 教授
- 分機 54210
- 儀器諮詢與操作服務：蔡慶祥 先生、柯明毅 先生
- 柯明毅 先生 (分機 55659、55667)
- 信箱 mingyi@nycu.edu.tw
- 蔡慶祥 先生 (分機 55605、55616)
- 信箱 ch-tsai@nycu.edu.tw
- 儀器位置：光復校區 固態電子系統大樓139室
- 廠牌型號：HIMT DWL-200
- 購置年限：2007年4月
- 放置地點：光復校區 固態電子系統大樓 10級R 139實驗室 (TEL：55616)
- 功能：玻璃光罩之製造(4”、5”及6”)， 5吋石英光罩(電洽)
- 重要規格：
- (1).雷射光源442nm(g-line) Helium _Cadmium LASER Power 125mW
- (2).Minimum feature size is .80um
- (3).最大有效區域 200mm x 200mmdeposition)
- (4).GDSII 及 Auto CAD 之 *. dxf 檔
- (5).Dual CCD camera alignment system
- 儀器可使用之特殊製程材料。
- 光罩製作說明
委託操作儀器
- 有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載DWL-200委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心（本校固態電子系統大樓2F）給各儀器管理人員協助排程代工。
- 無國科會計畫者，請直接下載DWL-200委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心（本校固態電子系統大樓2F）給各儀器管理人員協助排程代工。
收費資訊
- 有國科會計畫者依計畫付費標準計價，無國科會計畫者依非計畫付費標準計價。
- 費用查詢連結
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